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J-GLOBAL ID：200903026002529402

表面改質材料、その製造方法及びその使用

Inventor： シュヒミ モハメッド メーディ ,  パンソン ジャン ,  シャルル ベルナデット ,  ビュロー クリストフ ,  トロンシェ クリストフ ,  マトラブ タリク ,  ペリュショ クリスティアン ,  カベ-デリリ エヴァ ,  サヴ モード
Applicant, Patent owner： ユニヴェルシテ パリ セット-デニス ディデロ ,  アルシメル
Agent (2)： 森田 憲一 ,  山口 健次郎
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2007514029
Publication number (International publication number)：2008501814
Application date： Jun. 02, 2005
Publication date： Jan. 24, 2008
Summary：

本発明は、開始剤官能基を有する少なくとも1種のジアゾニウム塩の使用に関するものであって、前記ジアゾニウム塩由来のグラフトのグラフト化により得られるアンダーコートを形成して、前記アンダーコートにおいて導体材料又は半導体材料の表面に開始剤官能基をもたらすための前記ジアゾニウム塩の使用、及び、前記開始剤官能基により開始される、少なくとも1種のモノマーのインサイチュー重合、特にフリーラジカル重合、によって得られるポリマー層を、前記アンダーコート上に形成するための前記ジアゾニウム塩の使用に関する。

Claim (excerpt)：

重合開始官能基を有する少なくとも1種のジアゾニウム塩の使用であって、一方では、前記ジアゾニウム塩由来のグラフトのグラフト化により得られる基層を形成して、導体材料又は半導体材料の表面に重合開始官能基をもたらすための使用、及び他方では、前記重合開始剤官能基により開始される、少なくとも1種のモノマーの非アニオンインサイチュー重合によって得られるポリマー層を、前記基層上に形成するための使用。

IPC (2)：

C08F 2/00 ,  H01L 21/312

FI (3)：

C08F2/00 C ,  H01L21/312 A ,  H01L21/312 D

F-Term (9)：

4J011CA05 ,  4J011CC10 ,  4J011SA21 ,  4J011XA01 ,  5F058AA10 ,  5F058AC10 ,  5F058AD09 ,  5F058AG09 ,  5F058AG10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• ポリマー被覆の炭素生成物及びその他の顔料並びに水性媒質重合法又は溶媒コーティング法によるそれらの製造法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-575948   Applicant：キャボットコーポレイション
• 重合性ブラシにおける高分子のアレイおよびそれを調製するための方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-266267   Applicant：アフィメトリックスインコーポレイテッド
• 電気化学過程で表面に有機基による修飾を受けさせた炭素含有材料を製造する方法およびその修飾を受けさせた材料の使用
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-541221   Applicant：サントル・ナシヨナル・ド・ラ・ルシエルシユ・シヤンテイフイク・(シーエヌアールエス)
• 特表平6-505532