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J-GLOBAL ID：200903026141116201

バルーンカテーテルおよびその製造方法並びにカテーテルチューブへのバルーンの装着方法

Inventor：
吉野 洋右

About 吉野 洋右

, 
木村 正紀

About 木村 正紀

, 
竹沢 貴志

About 竹沢 貴志


Applicant, Patent owner：
株式会社ワイエス・メディカル

About 株式会社ワイエス・メディカル


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000180528
Publication number (International publication number)：2001037868
Application date： May. 15, 2000
Publication date： Feb. 13, 2001
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 バルーンの通過で血管内壁の損傷を受けないような柔軟性がありかつ高拡張性のバルーンを有するバルーンカテーテルの提供。【解決手段】 血管内に留置されて血管の閉塞用にもっぱら使用が意図されたバルーンカテーテル42において、バルーン40として、血管閉塞時に血管壁に障害を与えない程の充分な柔軟性と該カテーテルの引き抜き時にほぼ完全に収縮し血管壁に障害を与えない程の弾性を有しかつ血液との接触による血栓を生じさせないような材料から選択された材料からなり、血管閉塞位置での留置バルーン状態でのそのバルーンの材料の最大の伸びはバルーン固有の最大伸びを越えるように構成したことを特徴とするバルーンカテーテル。
Claim (excerpt)：
血管内に留置されて血管の閉塞用にもっぱら使用が意図されたバルーンカテーテルにおいて、バルーンとして、血管閉塞時に血管壁に障害を与えない程の充分な柔軟性と該カテーテルの引き抜き時にほぼ完全に収縮し血管壁に障害を与えない程の弾性を有しかつ血液との接触による血栓を生じさせないような材料から選択された材料からなり、血管閉塞位置での留置バルーン状態でのそのバルーンの材料の最大の伸びはバルーン固有の最大伸びを越えるように構成したことを特徴とするバルーンカテーテル。
IPC (2)：
A61L 29/00 ,  A61M 25/00
FI (3)：
A61L 29/00 W ,  A61M 25/00 410 H ,  A61M 25/00 410 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 低プロファイルバルーン及びその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-167995   Applicant：住友ベークライト株式会社
  • 賦形膜の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-244572   Applicant：日本ゼオン株式会社
  • 特開昭53-069488
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