ベンゾ[c]ヘテロ5員環化合物の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：飯田敏三 , 柏木悠三 , 佐々木渉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005164889
Publication number (International publication number)：2006335737
Application date： Jun. 03, 2005
Publication date： Dec. 14, 2006
Summary：

【課題】医薬、農薬および電子材料の中間体として有用なベンゾ[c]ヘテロ5員環化合物の新規な工業的製造法を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表されるハロメチルベンゼン化合物を出発物質とするベンゾ[c]ヘテロ5員環化合物の製造方法。 {式中、Aはホルミル基又はジハロゲノメチル基を表し、Xは塩素原子もしくは臭素原子を表し、Rはハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、アリール基(該アリール基は、同一或いは異なる、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基により1箇所以上置換されていてもよい。)、ニトロ基、シアノ基又はカルボキシル基を表わし、nは0〜4の整数を表わすが、nが2以上の場合、Rは同一であっても異なっていても良い。}【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表されるハロメチルベンゼン化合物と、下記一般式(2)で表される化合物とを反応させることを特徴とする、下記一般式(3)で表されるベンゾ[c]ヘテロ5員環化合物の製造方法。

IPC (3)：

C07D 209/44 , C07D 307/88 , C07D 333/72

FI (3)：

C07D209/44 , C07D307/88 , C07D333/72

F-Term (11)：

4C037RA20 , 4C204AB01 , 4C204BB04 , 4C204CB04 , 4C204DB01 , 4C204EB01 , 4C204FB01 , 4C204FB03 , 4C204FB08 , 4C204GB01 , 4C204GB24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

一酸化窒素発生用試薬
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-108975 Applicant：大和田智彦
コリン受容体リガンドとしての7-アザビシクロ[2.2.1]-ヘプタン及び-ヘプテン誘導体
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-508310 Applicant：ユニーバーシティオブバージニア
2-ホルミルベンジルホスホン酸誘導体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平2-417963 Applicant：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

N-Alkylisoindoles from N-alkylisoindoline N-oxides
Preparation of 4,7-dihydroisoindole derivatives and preliminary study of their reactivity with elect
Pyrimidine Derivatives and Related Compounds. XXXIII. Reactions of 6-Bromomethyl-5-formyl-1,3-dimeth

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