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J-GLOBAL ID：200903026244318856

フォトソルダーレジストインク

Inventor：
井上 拓三

About 井上 拓三

, 
橋本 壯一

About 橋本 壯一


Applicant, Patent owner：
互応化学工業株式会社

About 互応化学工業株式会社


Agent (1)： 武石 靖彦 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999237005
Publication number (International publication number)：2000232264
Application date： Aug. 24, 1999
Publication date： Aug. 22, 2000
Summary：
【要約】【課題】 ハロゲン含有量の少ない永久保護膜を形成する紫外線硬化型のフォトソルダーレジストインクを提供する。【解決手段】 上記の課題は、(A)側鎖に不飽和エチレンとカルボキシル基とを有する紫外線硬化性樹脂、(B)多官能エポキシ化合物、(C)有機着色顔料(D)光重合開始剤、および(E)有機溶剤を含むフォトソルダーレジストインクにおいて、前記有機着色顔料は化学構造式中にハロゲンを含まない有機着色顔料からなる群から選択され、前記フォトソルダーレジストインクの硬化物中のハロゲン含有量は500ppm以下になっていることを特徴とするフォトソルダーレジストインクとすることによって解決される。
Claim (excerpt)：
(A)側鎖に不飽和エチレンとカルボキシル基とを有する紫外線硬化性樹脂、(B)多官能エポキシ化合物、(C)有機着色顔料(D)光重合開始剤、および(E)有機溶剤を含むフォトソルダーレジストインクにおいて、前記有機着色顔料は化学構造式中にハロゲンを含まない有機着色顔料からなる群から選択され、前記フォトソルダーレジストインクの硬化物中のハロゲン含有量は500ppm以下になっていることを特徴とするフォトソルダーレジストインク。
IPC (6)：
H05K 3/28 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/038 503
FI (6)：
H05K 3/28 D ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/038 503
F-Term (28)：
2H025AA00 ,  2H025AA10 ,  2H025AA13 ,  2H025AA20 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC31 ,  2H025BC51 ,  2H025BC85 ,  2H025CA01 ,  2H025CA20 ,  2H025CA28 ,  2H025CA35 ,  2H025CC03 ,  2H025CC12 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  5E314AA27 ,  5E314AA32 ,  5E314AA41 ,  5E314AA45 ,  5E314CC07 ,  5E314DD06 ,  5E314FF05 ,  5E314FF19 ,  5E314GG26
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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