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J-GLOBAL ID：200903026421091280

タンパク質二次構造の面分布測定方法及び装置

Inventor：
赤尾 賢一

About 赤尾 賢一

, 
池端 薫

About 池端 薫

, 
真砂 央

About 真砂 央


Applicant, Patent owner：
日本分光株式会社

About 日本分光株式会社


Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001141873
Publication number (International publication number)：2002340793
Application date： May. 11, 2001
Publication date： Nov. 27, 2002
Summary：
【要約】【課題】 本発明の目的は被測定試料が不均一な状態や不純物が多い状態であっても測定を行うことができる方法、及び被測定試料のマッピングを行い得る安価な装置及び方法を提供することである。【解決手段】 本発明のタンパク質二次構造の面分布測定装置2は、赤外光照射手段6と、検出手段8と、あらかじめ測定された特定のタンパク質二次構造のスペクトルをデータ化して記憶した記憶手段10と、前記検出手段8によって得られた検出結果からスペクトルを割り出し、前記スペクトルを前記記憶手段10に記憶された特定のタンパク質二次構造のスペクトルと照合し、前記照合結果より特定のタンパク質二次構造の存在比を計算する解析手段12と、前記被測定試料の全体または特定範囲において、特定のタンパク質二次構造の存在比の面分布状態の測定結果を表示する表示手段14とを有する。
Claim (excerpt)：
被測定試料に赤外光を照射して特定のタンパク質二次構造の存在比を測定し得る面分布測定方法において、被測定試料に赤外光を照射し、前記被測定試料の特定部位からの被測定試料の情報を含む光を計測してスペクトルを解析し、前記スペクトルをあらかじめ得ていた特定のタンパク質二次構造のスペクトルと照合し、前記照合結果より特定のタンパク質二次構造の存在比を計算し、前記手順によって、被測定試料の全体または特定範囲において順次特定のタンパク質二次構造の存在比を測定してゆき、前記被測定試料の全体または特定範囲において、特定のタンパク質二次構造の存在比の面分布状態を測定することを特徴とするタンパク質二次構造の面分布測定方法。
IPC (2)：
G01N 21/35 ,  G01N 33/483
FI (2)：
G01N 21/35 Z ,  G01N 33/483 C
F-Term (18)：
2G045DA36 ,  2G045FA16 ,  2G045FA25 ,  2G045JA01 ,  2G045JA04 ,  2G045JA20 ,  2G059AA06 ,  2G059BB14 ,  2G059EE01 ,  2G059EE10 ,  2G059EE12 ,  2G059FF01 ,  2G059FF03 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ01 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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