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J-GLOBAL ID：200903026429487069

露光における位置合わせ方法および装置

Inventor：
三宅 栄一

About 三宅 栄一


Applicant, Patent owner：
サンエー技研株式会社

About サンエー技研株式会社


Agent (1)： 湯浅 恭三 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995290045
Publication number (International publication number)：1997134859
Application date： Nov. 08, 1995
Publication date： May. 20, 1997
Summary：
【要約】【課題】 フォトマスクと位置合わせマークのない基板との位置合わせを、短時間で且つ精度よく行う。【解決手段】 フォトマスク1は、第1の位置合わせマーク5を有する。基板2は、位置決めピン8により位置決めされる。ピン8には貫通孔11が形成されている。貫通孔11は、位置決めされた基板2の側端面から所定距離にあり、基板2の位置基準となる第2の位置合わせマーク11を構成する。光源14からの光に照射された第1の位置合わせマーク5と第2の位置合わせマーク11との間の位置ずれ量がCCDカメラ15によって検出される。検出された位置ずれ量が所定の値になってフォトマスク1と基板2とが正しく位置合わせされるよう、フォトマスク1がその平面内で移動される。
Claim (excerpt)：
露光における位置合わせ方法であって、第1の位置合わせマークおよび露光により基板上に転写すべきパターンを有するフォトマスクを準備する段階と、基板を、その露光すべき面が前記フォトマスクに向けられるよう位置決めする段階と、前記フォトマスクの第1の位置合わせマークに対応するよう前記基板以外の場所に設けられた第2の位置合わせマークにして、前記位置決めされた基板の側端面から所定距離にある位置に設けられた第2の位置合わせマークと前記第1の位置合わせマークとの間の位置ずれ量を検出する段階と、前記位置ずれ量を所定の値にすべく前記フォトマスクを移動させることにより該フォトマスクと前記基板との位置合わせを行う段階と、からなることを特徴とする露光における位置合わせ方法。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1343 ,  G03F 9/00
FI (4)：
H01L 21/30 510 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1343 ,  G03F 9/00 H
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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