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J-GLOBAL ID：200903026510226636

感放射線性樹脂組成物

Inventor： 梶田 徹 ,  諏訪 充史 ,  岩永 伸一郎
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996226175
Publication number (International publication number)：1998055069
Application date： Aug. 09, 1996
Publication date： Feb. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】 特に遠紫外線の露光により発生した酸の作用によって、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する現象を利用した化学増幅型レジストとして、遠紫外線に対する透明性が高く、かつ基板への接着性が優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(A)分子鎖の少なくとも一方の末端に下記構造式-X-COOH(式中、Xは-R1-、-S-R1-、-NH-R1- または-O-R1-で表される2価の基を示し、R1は置換基を有することができる炭素数1〜20の2価の炭化水素基を示す。)で表される基を有し、かつ酸の作用によってアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。

Claim (excerpt)：

(A)分子鎖の少なくとも一方の末端に下記構造式-X-COOH(式中、Xは-R1-、-S-R1-、-NH-R1- または-O-R1-で表される2価の基を示し、R1は置換基を有することができる炭素数1〜20の2価の炭化水素基を示す。)で表される基を有し、かつ酸の作用によってアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、および(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-049097   Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• 感光性組成物及び画像形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-049012   Applicant：コニカ株式会社