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J-GLOBAL ID:200903026514057626
エキシマレーザ装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
橋爪 良彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996342545
Publication number (International publication number):1998173259
Application date: Dec. 06, 1996
Publication date: Jun. 26, 1998
Summary:
【要約】【課題】 不純物混入の余地を無くし、レーザガスの長寿命化を図る。【解決手段】 レーザガスが封入されたレーザチャンバ1と、レーザガスを循環させる貫流ファン2と、対向磁極間の磁気力によって貫流ファン2側の回転軸3にモータ40の駆動力を伝達する磁気トルクカップリング45と、レーザチャンバ1に取着され、かつ、磁気トルクカップリング45の前記対向磁極間に配設されるとともに、レーザガスを外部と隔絶する障壁部35を有するケーシング5と、ケーシング5の内壁に支持され、かつ、回転軸3を非接触で回動自在に支承する磁気軸受20とを設けたエキシマレーザ装置において、磁気軸受20及び磁気トルクカップリング45を収容する部屋6と、レーザチャンバ1の外部又は内部に取着され、かつ、レーザチャンバ1のレーザガスの除塵処理を施すガス除塵装置16と、この清浄なレーザガスを部屋6に送給するガス通路7とを備える。
Claim (excerpt):
ハロゲンガスを含むレーザガスが封入されたレーザチャンバ(1) と、レーザチャンバ(1) 内のレーザガスを循環させる貫流ファン(2) と、対向する磁極間の磁気力によって前記貫流ファン(2) 側の回転軸(3) にモータ(40)の回転駆動力を伝達する磁気トルクカップリング(45)と、レーザチャンバ(1) に取着され、かつ、前記磁気トルクカップリング(45)の前記対向する磁極間に配設されるとともに、前記レーザチャンバ(1) 内のレーザガスを外部と隔絶する障壁部(35)を有するケーシング(5) と、このケーシング(5) の内壁に支持され、かつ、前記貫流ファン(2) 側の回転軸(3) を磁気力によって非接触で回動自在に支承する磁気軸受(20)とを設けたエキシマレーザ装置において、前記磁気軸受(20)を収容する部屋(6) と、前記レーザチャンバ(1) の外部又は内部に設けられ、かつ、ガス通路(15)を経由して前記貫流ファン(2) によって発生した動圧を利用して送給された前記レーザチャンバ(1) 内のレーザガスの除塵処理を施すガス除塵装置(16)と、この除塵処理された清浄なレーザガスを前記部屋(6) に送給するガス通路(7)とを備えたことを特徴とするエキシマレーザ装置。
IPC (2):
FI (2):
H01S 3/03 J
, H01S 3/223 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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放電励起エキシマレーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-280979
Applicant:日本電気株式会社
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特開平3-165084
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エキシマレーザ発振装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-138971
Applicant:日本電気株式会社
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特開昭61-295603
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特開平1-205584
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レ-ザ気体移送装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-313709
Applicant:株式会社島津製作所
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特開平2-001193
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特開平3-165084
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特開昭61-295603
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特開平1-205584
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特開平2-001193
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