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J-GLOBAL ID：200903026549038942

シャンプー組成物

Inventor： 青柳 賢治 ,  山本 晃弐 ,  木村 貴三子 ,  小川 康昭
Applicant, Patent owner： 新日本理化株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992083468
Publication number (International publication number)：1994116123
Application date： Mar. 04, 1992
Publication date： Apr. 26, 1994
Summary：

【要約】【目的】従来のシャンプーが有する洗浄力、泡立ち、泡のきめ、指通り性等の基本性能はもちろんのこと、すすぎ時の「きしみ感」を低減し、乾燥後の毛髪にしなやかさ、くし通り性などの付加的性能が付与され、さらに低刺激性、低温安定性、コンディショニング効果を有するシャンプー組成物を開発する。【構成】AおよびB,Cを必須成分として含む。(A)両性界面活性剤及び/又は非イオン性界面活性剤の1種または2種以上(B)N-ポリオキシエチレンアルキルエーテルエチル-N,N,N-トリアルキルアンモニウム塩またはN-ポリオキシエチレンアルキルエーテルエチル-N,N-ジアルキル-N-ベンジルアンモニウム塩型カチオン性界面活性剤の1種又は2種以上(C)アニオン性界面活性剤の1種又は2種以上

Claim (excerpt)：

下記のA、B、Cを必須成分として含むことを特徴とするシャンプー組成物。(A)両性界面活性剤及び/又は非イオン性界面活性剤の1種または2種以上(B)一般式(1)式で示されるN-ポリオキシエチレンアルキルエーテルエチル-N,N,N-トリアルキルアンモニウム塩またはN-ポリオキシエチレンアルキルエーテルエチル-N,N-ジアルキル-N-ベンジルアンモニウム塩型カチオン性界面活性剤の1種又は2種以上(C)アニオン性界面活性剤の1種又は2種以上【化1】(式中、R1 は炭素数8〜36のアルキル基、アルケニル基、アルキルアリール基、アラルキル基、R2、R3、は同一又は異なって炭素数1〜3のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、R4はベンジル基、炭素数1〜3のアル キル基、ヒドロキシアルキル基、nは0〜25の正数、X-は陰イオンを示 す。)

IPC (2)：

A61K 7/075 ,  C11D 1/62

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-155311
  
• シヤンプー組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-206045   Applicant：花王株式会社
• 特開昭64-081900