アミド基含有グアニジン誘導体またはその塩の製造方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999377140
Publication number (International publication number)：2001187775
Application date： Dec. 28, 1999
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】本発明は、高純度でしかも界面活性剤や電解質共存下においても溶液安定性に優れたアミド基含有グアニジン誘導体またはその塩を安定的に製造する方法を提供することを目的とする。【解決手段】下記一般式(I)【化1】で表わされるアミド基含有グアニジン誘導体またはその塩の製造方法であって、アミドアミン及び/またはその塩を、グアニジン化反応試剤を用いてグアニジン化を行う工程、及び、(2)晶析及び濾過工程、(3)有機溶媒による洗浄工程を含むことを特徴とするアミド基含有グアニジン誘導体またはその塩の製造方法とする。

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)【化1】(式中、R1は、炭素数1〜22の直鎖または分岐鎖のアルキル基、あるいはアルケニル基である。R2、R3は、水素原子または炭素数1〜4の直鎖または分岐鎖のアルキル基、ヒドロキシルアルキル基であり、同一でも異なっていても良い。Aは、炭素数1〜10の直鎖または分岐鎖のアルキレン基、あるいはアルケニレン基である。)で表わされるアミド基含有グアニジン誘導体またはその塩の製造方法であって、(1)下記一般式(II)【化2】(式中、R1は、炭素数1〜22の直鎖または分岐鎖のアルキル基、あるいはアルケニル基である。R2、R3は、水素原子または炭素数1〜4の直鎖または分岐鎖のアルキル基、ヒドロキシルアルキル基であり、同一でも異なっていても良い。Aは、炭素数1〜10の直鎖または分岐鎖のアルキレン基、あるいはアルケニレン基である。)で表わされるアミドアミン及び/またはその塩を、グアニジン化反応試剤を用いてグアニジン化を行う工程、及び、(2)晶析及び濾過工程、(3)有機溶媒による洗浄工程を含むことを特徴とするアミド基含有グアニジン誘導体またはその塩の製造方法。

IPC (2)：

C07C277/08 , C07C279/12

FI (2)：

C07C277/08 , C07C279/12

F-Term (15)：

4H006AA02 , 4H006AA03 , 4H006AB12 , 4H006AB70 , 4H006AC52 , 4H006AC53 , 4H006AC59 , 4H006AD15 , 4H006AD17 , 4H006BB12 , 4H006BB16 , 4H006BB25 , 4H006BB61 , 4H006BC10 , 4H006BE90

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

アミド基含有グアニジン誘導体またはその塩の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-129945 Applicant：ライオン株式会社
L-アスパラギン酸の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-327072 Applicant：三菱化学株式会社
テレフタル酸水スラリーの調製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-315019 Applicant：三菱化学株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

(新版)続・実験を安全に行うために, 19941010, p.55-62

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