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J-GLOBAL ID：200903026670154232
フォトマスク及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994222190
Publication number (International publication number)：1995306524
Application date： Sep. 16, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：
【要約】【目的】 位相シフト法により得られる高解像のパターン転写を可能とせしめるフォトマスクを提供すること。【構成】 投影光学系を介して所定のパターンを被露光基板上に露光するために用いるフォトマスクにおいて、露光光に対して光学的に透明な基板上11に、露光光を遮光する遮光部材12によって遮光部と透光部とが形成されたパターンを有し、透光部の透明基板形状が全て凹状で、この凹部の側壁が遮光部材12のエッジと略一致する垂直形状であり、且つ隣合う透光部の凹部深さD1 ,D2 が、D1 =λ/2(n-1),D2 =2D1 の関係を満たすように設定したことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
投影光学系を介して所定のパターンを被露光基板上に露光するために用いられるフォトマスクにおいて、露光光に対して光学的に透明な基板上に、露光光を遮光する遮光部材によって遮光部と透光部とが形成されたパターンを有し、透光部の透明基板形状が全て凹状で、この凹部の側壁が遮光部材のエッジと略一致する垂直形状であり、且つ隣合う透光部の凹部深さが異なることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
