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J-GLOBAL ID:200903026674759856

ポリスチレン系延伸フィルム及びポリスチレン系延伸フィルムの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大谷 保
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994299254
Publication number (International publication number):1996157615
Application date: Dec. 02, 1994
Publication date: Jun. 18, 1996
Summary:
【要約】【目的】 優れた印刷性及び蒸着後の剥離強度等を有する延伸フィルムを提供すること、及び、優れた性能を有するポリスチレン系延伸フィルムを効率的に製造する方法を提供することができる。【構成】 高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体70〜100重量%を含むスチレン系樹脂組成物からなる延伸フィルムであって、結晶化度が35%以上であり、残留モノマー成分量が200ppm以下であり、9μm以上の異物数が1cm3中1000個以下であることを特徴とするポリスチレン系延伸フィルム、及び特定量のスチレン系樹脂組成物を溶融濾過しながら押出し、冷却、二次延伸の順で処理後、処理度Aが1×10-1以上5×102未満で熱処理を施すことを特徴とするポリスチレン系延伸フィルムの製造方法。
Claim (excerpt):
高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体70〜100重量%を含むスチレン系樹脂組成物からなる延伸フィルムであって、結晶化度が35%以上であり、残留モノマー成分量が200ppm以下であり、9μm以上の異物数が1cm3中1000個以下であることを特徴とするポリスチレン系延伸フィルム。
IPC (4):
C08J 5/18 CET ,  B29C 55/02 ,  C08L 25/00 LEJ ,  B29K 25:00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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