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J-GLOBAL ID：200903026733031357

異方性多層薄膜構造体の評価法及び評価装置

Inventor： 廣沢 一郎
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000086736
Publication number (International publication number)：2001272308
Application date： Mar. 27, 2000
Publication date： Oct. 05, 2001
Summary：

【要約】【目的】薄膜試料の光学的異方性を評価する装置と方法を与える。【構成】試料表面に偏光子を通過することでS偏光とP偏光とのいずれか一方の偏光にされた平行光線を入射し、反射光のうち他方の偏光成分の強度を検光子と光強度検出器により測定することで、薄膜試料の異方性を測定する異方性多層薄膜構造体評価法及び評価装置であり、面内の測定を広範囲で同時に行うため、複数組の光源と検出器を並列に配置し、平行移動機能を備えたステージを有する装置である。

Claim (excerpt)：

P偏光またはS偏光の一方の偏光成分を異方性多層薄膜構造体に対し一定の角度で入射して発生する反射光の入射光とは異なる偏光成分の強度を測定し、異方性多層薄膜構造体の光学的異方性を決定することを特徴とする異方性多層薄膜構造体の評価法。

IPC (3)：

G01M 11/00 ,  G01N 21/23 ,  G01N 21/27

FI (3)：

G01M 11/00 T ,  G01N 21/23 ,  G01N 21/27 A

F-Term (15)：

2G059AA02 ,  2G059BB16 ,  2G059BB20 ,  2G059DD12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059GG04 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK04 ,  2G059PP04 ,  2G086EE10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 異方性薄膜検査法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-049320   Applicant：日本電気株式会社