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J-GLOBAL ID:200903088746766939
異方性薄膜検査法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996049320
Publication number (International publication number):1997218133
Application date: Mar. 06, 1996
Publication date: Aug. 19, 1997
Summary:
【要約】【課題】 液晶表示素子の液晶高分子配向膜等に用いられる異方性薄膜の反射光の偏光状態を測定することによって膜質の評価を行う。【解決手段】 高分子配向膜の分子配向の状態を試料からの反射光の偏光状態を測定することによって評価する。分子が配向している膜では屈折率や複屈折率といった光学特性に異方性があり、配向性が高くなるに従って異方性が増す。膜の光学特性の測定は多入射角または入射角固定の反射偏光解析(エリプソメトリ)によって行い、光学特性の異方性は試料の回転または試料面上で互いに交差する複数の光線を用いて行う。
Claim (excerpt):
薄膜試料表面に対して所定の偏光状態の単色光線を所定の角度で入射したときに生じる反射光の偏光状態を試料面内の複数の方向について測定し、反射光の偏光状態の異方性から試料の分子配向を決定することを特徴とする異方性薄膜検査法。
IPC (4):
G01M 11/00
, G01N 21/21
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1337 520
FI (4):
G01M 11/00 T
, G01N 21/21 Z
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1337 520
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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偏光解析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-070842
Applicant:ホーヤ株式会社
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特開平4-095845
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エリプソメータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-202402
Applicant:株式会社島津製作所
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