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J-GLOBAL ID：200903026789618563

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

Inventor： ティモセウス フランチスクス センゲルス ,  マルクス アドリアヌス ファン デ ケルクホフ ,  マルク クローン ,  ケース ファン ヴェールト
Applicant, Patent owner： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  白江 克則 ,  吉田 裕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004247643
Publication number (International publication number)：2005079587
Application date： Aug. 27, 2004
Publication date： Mar. 24, 2005
Summary：

【課題】高NA装置での使用に適した、高感度を有する基板高さのセンサを提供すること。【解決手段】放射線ビームを調節するように構成された照明装置と、放射線ビームの断面にパターンを与えることにより、パターンの形成された放射線ビームを生成することのできるパターン形成装置を支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターンの形成された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影装置と、放射線受容要素、前記放射線受容要素を支持する透過板、及び放射線検出手段を有する基板高さのセンサとを有するリソグラフィ装置であって、前記基板高さのセンサが、前記放射線受容要素と前記放射線検出手段の最終要素との間での放射線の損失を防止するように構成されるリソグラフィ装置が提供される。【選択図】図11a

Claim (excerpt)：

放射線ビームを調整するように構成された照明装置と、 放射線ビームの断面にパターンを付与することにより、パターンの形成された放射線ビームを生成することのできるパターン形成装置を支持するように構成された支持体と、 基板を保持するように構成された基板テーブルと、 パターンの形成された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影装置と、 放射線受容要素、該放射線受容要素を支持する透過板、及び放射線検出手段を含む基板高さのセンサとを含むリソグラフィ装置において、 前記基板高さのセンサが、前記放射線受容要素と前記放射線検出手段の最終要素との間での放射線の損失を防止するように構成されていることを特徴とするリソグラフィ装置。

IPC (3)：

H01L21/027 ,  G01B15/00 ,  G03F7/20

FI (4)：

H01L21/30 516C ,  G01B15/00 A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D

F-Term (16)：

2F067AA23 ,  2F067CC17 ,  2F067EE04 ,  2F067HH09 ,  2F067JJ08 ,  2F067KK06 ,  2F067KK09 ,  2F067PP12 ,  5F046CB12 ,  5F046CB20 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046DA01 ,  5F046DB01 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 結像位置検出装置及び半導体デバイスの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-110482   Applicant：株式会社ニコン
• 露光装置、光学特性検出方法及び露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-363948   Applicant：株式会社ニコン