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J-GLOBAL ID：200903026814273797

被処理基板の移載装置

Inventor： 宮下 正弘
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 井上 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996142274
Publication number (International publication number)：1997306975
Application date： May. 13, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 密閉型の被処理基板カセット(ウエハカセット)を用いてウエハカセット内の被処理基板例えばウエハを処理ステ-ションに移載するにあたり、ウエハの汚染をできるだけ防止することができる装置を提供すること。【解決手段】 壁部2によりウエハカセット3の載置領域(第1の雰囲気)とウエハの移載領域(第2の雰囲気)とを区画し、壁部2に開口部21を形成し、ここにウエハカセット3を第1の雰囲気側から装着して、第2の雰囲気側からウエハカセット3内のウエハを取り出す。前記開口部21とウエハカセット3との間の隙間をOリング22で封止すると共に、開口部21の第2の雰囲気側の周縁部と壁部用蓋体51との間にシ-ル部材54を介在させ、開口部21内の雰囲気を第1及び第2の雰囲気から封止し、開口部21内を排気しながらN2 ガスを供給する。

Claim (excerpt)：

第1の雰囲気と第2の雰囲気とを区画すると共に被処理基板の受け渡し用の開口部が形成された壁部と、被処理基板を収納するカセット本体とこのカセット本体の被処理基板取り出し口を気密に塞ぐための蓋体とを有する密閉型の被処理基板カセットと、を備え、前記被処理基板カセットを前記第1の雰囲気側から前記壁部に取り付けて、前記第2の雰囲気内の移載機構により前記カセットに対して被処理基板の受け渡しを行うための装置であって、前記第1の雰囲気側に設けられ、前記被処理基板カセットを、被処理基板取り出し口が前記開口部に適合するように載置するためのカセット載置部と、前記壁部の開口部の周縁部と前記被処理基板カセットの被処理基板取り出し口の周縁部との間を封止して当該カセット内空間と前記第1の雰囲気とを気密に区画するための封止部と、前記壁部の開口部を気密に塞ぐための壁部用の蓋体と、前記壁部用の蓋体を開閉するための第1の開閉手段と、前記カセットの蓋体を開閉するための第2の開閉手段と、を備えたことを特徴とする被処理基板の移載装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/07

FI (2)：

H01L 21/68 D ,  B65G 49/07 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 処理装置及び処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-348917   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 特開平4-308123