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J-GLOBAL ID：200903026848854179

感光性組成物

Inventor： 早瀬 留美子 ,  浅川 鋼児 ,  仁木 博一 ,  親里 直彦 ,  若林 弘光
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992245299
Publication number (International publication number)：1994093045
Application date： Sep. 14, 1992
Publication date： Apr. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】表面に庇を生じることなく、断面矩形の微細なパターンを安定して形成し得る感光性組成物を提供する【構成】下記一般式(I)で表される酸により分解し得る置換基を有する化合物と、光照射により酸を発生する化合物と、下記一般式(II)で表されるケイ素を含むアミン化合物とを必須成分として含有する。【化1】(式中、R1 は1価の有機基を、mは0以上の整数を、nは正の整数を、R2 およびR3 は2価の有機基を、R4 〜R7 は1価の有機基を、L は正の整数を、夫々表す。)

Claim (excerpt)：

(a)酸により分解し得る置換基を有する化合物と、(b)光照射により酸を発生する化合物と、(c)ケイ素を含むアミン化合物とを必須成分として含有する感光性組成物。

IPC (2)：

C08F212/14 MJY ,  H01L 21/312

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• パターン形成用レジストおよびパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-100310   Applicant：株式会社東芝
• 特開平4-211258
  

Cited by examiner (1)

• 特開平4-204945