Pat
J-GLOBAL ID:200903026876593194
可視光応答性光触媒及びそれを用いた水素製造方法と有害化学物質分解方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001221148
Publication number (International publication number):2003033661
Application date: Jul. 23, 2001
Publication date: Feb. 04, 2003
Summary:
【要約】【課題】太陽光などに含まれる紫外線のみならず可視光領域も利用しうる光触媒を提供し、この触媒を用いて水等の分解に使用し、これによって、水素を生成、製造する手段を提供しようするものであり、更にまた、有害化学物質の分解処理に使用し、これによって、有害物質無害化処理手段を提供しようとするものである。【解決手段】光触媒成分として、一般式;BVO4で表されるバナジウム(V)含有複合酸化物半導体(ただし、Bは周期律表中3b族元素或いは3価の遷移金属を表す。)を使用することによって、解決手段とするものである。
Claim (excerpt):
一般式(1):BV04で表されるバナジウム(V)含有複合酸化物半導体を含んでいることを特徴とする光触媒。式中Bは元素周期律表中3b族元素或いは3価の遷移金属を表す。
IPC (11):
B01J 35/02
, B01D 53/86
, B01J 23/22
, B01J 23/648
, B01J 23/847
, C01B 3/04
, C01B 3/22
, C01G 31/00
, C02F 1/30
, C02F 1/32
, C02F 1/72 101
FI (11):
B01J 35/02 J
, B01J 23/22 M
, C01B 3/04 A
, C01B 3/22 A
, C01G 31/00
, C02F 1/30
, C02F 1/32
, C02F 1/72 101
, B01J 23/84 301 M
, B01J 23/64 102 M
, B01D 53/36 J
F-Term (82):
4D037AA01
, 4D037AB04
, 4D037AB18
, 4D037BA16
, 4D037BA18
, 4D037CA11
, 4D048AA21
, 4D048AB03
, 4D048BA03Y
, 4D048BA07Y
, 4D048BA17X
, 4D048BA23X
, 4D048BA23Y
, 4D048BA25Y
, 4D048BA28Y
, 4D048BA30X
, 4D048BA31Y
, 4D048BA32X
, 4D048BA33Y
, 4D048BA36Y
, 4D048BA38Y
, 4D048BA41X
, 4D048BA42X
, 4D048BB01
, 4D048EA01
, 4D050AA01
, 4D050AB04
, 4D050AB11
, 4D050BB01
, 4D050BC04
, 4D050BC09
, 4G040DA01
, 4G040DB04
, 4G040DC01
, 4G040DC02
, 4G040DC03
, 4G048AA03
, 4G048AB01
, 4G048AC03
, 4G048AC08
, 4G048AD06
, 4G048AE05
, 4G069AA02
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA48A
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BB06A
, 4G069BB06B
, 4G069BC15A
, 4G069BC17A
, 4G069BC18A
, 4G069BC18B
, 4G069BC29A
, 4G069BC50A
, 4G069BC54A
, 4G069BC54B
, 4G069BC58A
, 4G069BC62A
, 4G069BC66A
, 4G069BC68A
, 4G069BC68B
, 4G069BC70A
, 4G069BC70B
, 4G069BC74A
, 4G069BC75A
, 4G069BC75B
, 4G069CA05
, 4G069CA11
, 4G069CC33
, 4G069CC40
, 4G069DA05
, 4G069DA10
, 4G069EA01Y
, 4G069EA02Y
, 4G069EC22X
, 4G069EC22Y
, 4G069FA01
, 4G069FA02
, 4G069FB14
, 4G069FB44
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
可視光反応型光触媒とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-380341
Applicant:株式会社姫科エンジニアリング
-
光触媒およびこれを用いた水素の製造方法ならびに有害物質の分解方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-208937
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
-
ダストの処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-163435
Applicant:大同特殊鋼株式会社
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