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J-GLOBAL ID：200903026887829602

水処理装置

Inventor： 稲本 吉宏 ,  廣田 達哉 ,  藤川 清和 ,  河村 要藏 ,  岸 稔 ,  志水 康彦 ,  近藤 康人 ,  中西 稔
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 稲岡 耕作 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999357937
Publication number (International publication number)：2001170639
Application date： Dec. 16, 1999
Publication date： Jun. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】 水槽に貯留された被処理水を簡単かつ効率的に滅菌処理し得る、新規な水処理装置を提供する。【解決手段】 水槽2に接続された、被処理水を流通させる水処理経路10上に、上流側より順に、残留塩素センサS1および導電率センサS2、塩素イオンを含む電解質溶液の供給路31、および電解槽12を配置し、前記電解質溶液の供給により、電解槽12内での塩素イオン濃度を調整する。【効果】 例えば水槽2がプールや浴槽である場合において、被処理水W中の残留塩素濃度に応じて電極組11に通電することにより、営業中においても滅菌処理を行うことができる。さらに、被処理水W中のイオン濃度に応じて電解槽12に電解質溶液を供給することにより、電解槽12内での塩素発生効率を高めることができ、電極組の寿命を増大させることができる。

Claim (excerpt)：

被処理水を貯留する水槽と、当該水槽から導入された被処理水を電気化学反応によって滅菌する電解槽と、前記被処理水を水槽から電解槽に導入し、かつ滅菌処理後に水槽に還流させる水処理経路を備えるとともに、当該水処理経路の電解槽より上流側に、塩素イオンを含む電解質溶液の供給路を配置し、前記電解質溶液の供給により、電解槽内での塩素イオン濃度を調整することを特徴とする水処理装置。

IPC (13)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/76 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504

FI (18)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 510 D ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 D ,  C02F 1/50 560 Z ,  C02F 1/50 560 A ,  C02F 1/76 A ,  C02F 9/00 502 A ,  C02F 9/00 502 D ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 M ,  C02F 9/00 503 A ,  C02F 9/00 503 F ,  C02F 9/00 504 B

F-Term (38)：

4D025AA08 ,  4D025AB19 ,  4D025BA08 ,  4D025BB02 ,  4D025BB11 ,  4D025DA06 ,  4D050AA08 ,  4D050AA10 ,  4D050AB06 ,  4D050BB04 ,  4D050BB06 ,  4D050BB07 ,  4D050BC10 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA01 ,  4D050CA08 ,  4D050CA10 ,  4D050CA15 ,  4D061DA05 ,  4D061DA07 ,  4D061DB01 ,  4D061DB02 ,  4D061DB10 ,  4D061EA02 ,  4D061EB20 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061ED13 ,  4D061FA01 ,  4D061FA08 ,  4D061FA10 ,  4D061FA13 ,  4D061GA06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

• 酸性水風呂
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-142490   Applicant：船井電機株式会社
• 電解殺菌装置を有する浴水循環装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-108984   Applicant：蛇の目ミシン工業株式会社
• 特開平2-149395
  
• 用水または排水の浄化処理方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-030555   Applicant：株式会社テー・アール・ピー
• 電解反応装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-321657   Applicant：株式会社テー・アール・ピー
• 浴用水の循環浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-353849   Applicant：松下電工株式会社
• 電解水生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-139984   Applicant：ホシザキ電機株式会社
• 鑑賞魚飼育用水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-306805   Applicant：和技研株式会社
• 電解槽を有する温水循環式浴槽装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-291512   Applicant：コロナ工業株式会社
• 循環温浴器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-152052   Applicant：松下電器産業株式会社
• 水質維持装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-190926   Applicant：日立テクノエンジニアリング株式会社, 九州日立マクセル株式会社