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J-GLOBAL ID：200903091096322233

水質維持装置

Inventor： 石塚 章斤 ,  若林 昭宏 ,  沼田 典之
Applicant, Patent owner： 日立テクノエンジニアリング株式会社 ,  九州日立マクセル株式会社
Agent (1)： 松尾 憲一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997190926
Publication number (International publication number)：1999033532
Application date： Jul. 16, 1997
Publication date： Feb. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】長期にわたり、低コストで水質維持を図ること。【解決手段】貯水部(1) 内の貯留水を、循環ポンプ(P) を設けた貯留水循環流路(2) を介して循環可能に構成し、同貯留水循環流路(2) に、流量調整部(51)を介して流量を絞った水質検査用分岐流路(5) を前記貯水部(1) に還流可能に接続するとともに、同水質検査用分岐流路(5) に水質検査手段(6) を設けた。

Claim (excerpt)：

貯水部(1),(10)内の貯留水を、循環ポンプ(P) を設けた貯留水循環流路(2) を介して循環可能に構成し、同貯留水循環流路(2) に、流量調整部(51)を介して流量を絞った水質検査用分岐流路(5) を前記貯水部(1),(10)に還流可能に接続するとともに、同水質検査用分岐流路(5) に水質検査手段(6) を設けたことを特徴とする水質維持装置。

IPC (9)：

C02F 1/00 ,  C02F 1/46 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 560

FI (9)：

C02F 1/00 V ,  C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 J ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 550 L ,  C02F 1/50 560 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭61-117334
  
• 特開平4-200791
  
• 特開平2-090994
  
• 特開平3-238085
  
• 風呂ユニット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-175370   Applicant：株式会社ノーリツ