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J-GLOBAL ID：200903026890498919

ケイ素溶出バテライトの製造方法

Inventor： 太田 義夫 ,  廣嶋 美智子 ,  春日 敏宏 ,  遠山 公男
Applicant, Patent owner： 矢橋工業株式会社 ,  国立大学法人 名古屋工業大学 ,  山八歯材工業株式会社
Agent (3)： 網野 友康 ,  初瀬 俊哉 ,  網野 誠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007123649
Publication number (International publication number)：2008280191
Application date： May. 08, 2007
Publication date： Nov. 20, 2008
Summary：

【課題】 水溶液中にケイ素を溶出させることができるメタノールなどの有機媒体を用いないケイ素溶出炭酸カルシウムの製造方法を提供する。【解決手段】 好ましくは0.1wt%以上のケイ素を含有するケイ素溶出炭酸カルシウムは、水、消石灰及び有機ケイ素化合物としてγ-アミノプロピルトリエトキシシランを混合させた懸濁液中に炭酸ガスを吹き込むことにより得られる。炭酸カルシウムは、新しく骨が生成されるにつれて生体内に吸収されるか分解して体外に排出され、最終的には自己骨によって欠損部が修復される有用な骨修復用生体材料であるが、これに早く新しい骨の生成を促進させるケイ素を含有させ、さらに骨修復機能を高めることが期待できる。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

水、消石灰及び有機ケイ素化合物を混合させた懸濁液中に炭酸ガスを吹き込むことを特徴とするケイ素溶出炭酸カルシウムの製造方法。

IPC (1)：

C01F 11/18

FI (1)：

C01F11/18 C

F-Term (15)：

4C081AB04 ,  4C081BA12 ,  4C081CF132 ,  4C081DA11 ,  4C081DC11 ,  4C081EA05 ,  4G076AA16 ,  4G076AB06 ,  4G076AB13 ,  4G076BA34 ,  4G076BB08 ,  4G076CA29 ,  4G076CA33 ,  4G076CA40 ,  4G076DA16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開昭61-77622
  
• 特開昭63-103824
  
• 特開平4-31315
  
• 特開昭64-72916
  

Cited by examiner (8)

• ケイ素溶出炭酸カルシウム、およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-285429   Applicant：矢橋工業株式会社, 国立大学法人名古屋工業大学, 山八歯材工業株式会社
• カップリング剤処理炭酸カルシウム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-325994   Applicant：旭化成ケミカルズ株式会社
• シリカ-炭酸カルシウム複合粒子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-088435   Applicant：日鉄鉱業株式会社
• 沈降炭酸カルシウム/ケイ素化合物複合顔料
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-500620   Applicant：ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション
• シリカ-炭酸カルシウム複合粒子及びその製造方法、並びに該複合粒子を含有する複合組成物及び複合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-253938   Applicant：日鉄鉱業株式会社
• シリカ-炭酸カルシウム複合粒子及びその複合粒子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-058272   Applicant：日鉄鉱業株式会社
• 特開昭63-103824
  
• 特開昭61-077622