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J-GLOBAL ID：200903026965627957

位相シフト干渉縞の同時計測装置

Inventor：
配野 宏

About 配野 宏

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川崎 和彦

About 川崎 和彦

, 
光谷 直樹

About 光谷 直樹


Applicant, Patent owner：
株式会社ミツトヨ

About 株式会社ミツトヨ


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999136831
Publication number (International publication number)：2000329535
Application date： May. 18, 1999
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：
【要約】【課題】 光学部品点数ができるだけ少なく、光路長が短いコンパクトな光学系であり、光学誤差や光学ノイズの少ない位相シフト干渉縞の同時計測装置を得るにある。【解決手段】 光学的無干渉状態の被検面からの試料光と参照光とを含む直線偏光光束を、光学的無干渉状態を保ったまま、前記試料光及び参照光の位相に対して互いに一定量の位相差をもつ3つの出力光束に分割し、これらの出力光束の前記試料光と前記参照光をそれぞれ光学的に干渉させ、これらの干渉により得られる干渉縞画像を3個の撮像処理手段で同時的に得る位相シフト干渉縞の同時計測装置において、前記試料光及び参照光を位相差をもつ3つの出力光束に分割する分割光学系は、ひとつの前記直線偏光光束を入射されて3つの前記出力光束を出射する複合プリズム9Aを有し、前記撮像処理手段は位置的反転変換部を含む位相シフト干渉縞の同時計測装置。
Claim (excerpt)：
【請求項1 】 被検面で反射された試料光と参照面で反射された参照光とを光学的無干渉状態で同一観測面内に含む原光束を生成する原光束生成手段と、前記原光束を3つの出力光束に分割する光束分割手段と、得られた前記3つの出力光束のそれぞれについて、前記の試料光と参照光にそれぞれ異なる光学位相差を与えると同時に光学的に干渉させる複数の干渉手段と、これらの干渉の結果得られた干渉縞画像を撮像して画像処理する複数の撮像処理手段と、を含む位相シフト干渉縞の同時計測装置において、前記光束分割手段は、第1と第2の2つのビームスプリッタのみを含み、前記3つの出力光束の内、第1出力光束は前記第1ビームスプリッタによる光学的反射で得て、第2出力光束は前記第1ビームスプリッタによる光学的透過と前記第2ビームスプリッタによる光学的反射で得て、第3出力光束は前記第1と第2ビームスプリッタによる光学的透過により得る複合ビームスプリッタにより構成され、前記撮像処理手段は位置的反転変換部を含むことを特徴とする位相シフト干渉縞の同時計測装置。
IPC (2)：
G01B 11/24 ,  G01B 9/02
FI (2)：
G01B 11/24 D ,  G01B 9/02
F-Term (38)：
2F064AA09 ,  2F064CC01 ,  2F064DD02 ,  2F064DD04 ,  2F064DD05 ,  2F064EE01 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG23 ,  2F064GG32 ,  2F064GG38 ,  2F064GG53 ,  2F064HH03 ,  2F064HH06 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ00 ,  2F065AA47 ,  2F065AA49 ,  2F065AA54 ,  2F065DD02 ,  2F065DD04 ,  2F065DD11 ,  2F065DD12 ,  2F065DD14 ,  2F065EE01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF49 ,  2F065FF52 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL12 ,  2F065LL32 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ31
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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