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J-GLOBAL ID：200903026998113517

シリコンウエハーエッチング用苛性ソーダ水溶液

Inventor： 浜田 一幸 ,  榊 壮一 ,  安藤 敬二
Applicant, Patent owner： 旭化成ケミカルズ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007193735
Publication number (International publication number)：2009029650
Application date： Jul. 25, 2007
Publication date： Feb. 12, 2009
Summary：

【課題】シリコンウエハーがニッケルで汚染されるのを高度に抑制する高機能の苛性ソーダ水溶液を提供する。【解決手段】カルボン酸塩類を含有させた苛性ソーダ水溶液をシリコンウエハーのエッチングに供することで、シリコンウエハーの金属汚染を大幅に抑制できる。カルボン酸塩類の苛性ソーダ水溶液中の含有量は特に限定されないが、0.01重量%以上で5重量%以下が好ましい。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

カルボン酸塩類を含有することを特徴とするシリコンウエハーエッチング用苛性ソーダ水溶液。

IPC (2)：

C01D 1/40 ,  C23F 1/40

FI (2)：

C01D1/40 ,  C23F1/40

F-Term (6)：

4K057WA01 ,  4K057WB06 ,  4K057WE21 ,  4K057WE22 ,  4K057WF10 ,  4K057WN01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• アルカリ溶液の精製装置及びその方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-119994   Applicant：鶴見曹達株式会社
• 高純度水酸化アルカリ金属の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-332466   Applicant：鶴見曹達株式会社
• アルカリ溶液の純化方法及び半導体ウェーハのエッチ ング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-039921   Applicant：信越半導体株式会社