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J-GLOBAL ID:200903027044214688
ポリマー、およびそれを含むフォトレジスト
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
千田 稔
, 辻永 和徳
, 橋本 幸治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004058830
Publication number (International publication number):2004295104
Application date: Mar. 03, 2004
Publication date: Oct. 21, 2004
Summary:
【課題】短波長、たとえば300nm未満および200nm未満において、高解像度の画像が形成されるレジスト用の樹脂組成物を提供する。【解決手段】非炭素四価化学種(Si、Ti、Ge、Zr、Sn)を有する新規ポリマー、およびそのようなポリマーを含有するフォトイメージャブル組成物であり、好ましいポリマーは、有機であり、たとえば1種類以上のポリマー繰り返し単位が炭素原子を含む。SiO2またはTiO2の繰り返し単位を含むポリマー、該ポリマーと光活性成分を含有するフォトイメージャブル組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt):
光活性成分とポリマー成分とを含むフォトイメージャブル組成物であって、
前記ポリマー成分は、次式:
IPC (2):
FI (2):
G03F7/075
, H01L21/30 502R
F-Term (11):
2H025AA01
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025CB33
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-028236
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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活性成分及びそれを用いた感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-370476
Applicant:株式会社関西新技術研究所
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-270090
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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