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J-GLOBAL ID:200903027066036503
ミクロ相分離構造物の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大谷 保
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006237910
Publication number (International publication number):2008055579
Application date: Sep. 01, 2006
Publication date: Mar. 13, 2008
Summary:
【課題】ミクロドメイン構造を高度に配向制御することができ、高い配向度を有し、ナノオーダー間隔のミクロドメイン構造を形成することができるミクロ相分離構造物の製造方法及び該製造方法により得られる構造物を提供すること。【解決手段】液晶多形を示すセグメントと非晶性セグメントとを有するブロック共重合体をせん断ずり印加により配向制御することを特徴とするミクロ相分離構造物の製造方法及び当該製造方法より得られるミクロ相分離構造物である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
液晶多形を示すセグメントと非晶性セグメントとを有するブロック共重合体をせん断ずり印加により配向制御することを特徴とするミクロ相分離構造物の製造方法。
IPC (3):
B82B 3/00
, B82B 1/00
, C08F 293/00
FI (3):
B82B3/00
, B82B1/00
, C08F293/00
F-Term (8):
4J026HA06
, 4J026HA28
, 4J026HA39
, 4J026HB11
, 4J026HB28
, 4J026HB39
, 4J026HB45
, 4J026HE01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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光学液晶フィルム及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-253667
Applicant:新日本石油株式会社
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旋光性フィルム及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-285401
Applicant:国立大学法人東京工業大学, 新日本石油株式会社
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偏光膜製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-057377
Applicant:ナカン株式会社
-
ホログラム回折格子素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-313582
Applicant:ソニー株式会社
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Article cited by the Patent:
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