潤滑補助されたエレクトロウェッティングによる調整可能な液体マイクロレンズ

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡部正夫 (外10名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002267498
Publication number (International publication number)：2003177219
Application date： Sep. 13, 2002
Publication date： Jun. 27, 2003
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】材料選択の自由度を高め、かつ優れた調整性能を提供すると共に、接触角ヒステリシスおよびスティックスリップ効果を軽減または排除する調節可能な液体マイクロレンズを提供する。【解決手段】調整可能な液体マイクロレンズが、絶縁層24、透明な導電性液体の小滴22および、絶縁層の第1表面上配置され、かつ小滴と絶縁層の間に配置される潤滑層を含む。このマイクロレンズはまた、絶縁層および潤滑層によって小滴から絶縁されている複数の電極26を含み、これらの複数の電極が、小滴と複数の電極のそれぞれとの間でそれぞれの電圧を発生するために、それらの電極に選択的にバイアスを掛けることができるように配置され、それによって小滴と絶縁層の第1表面に平行な平面との間の角度θを変化させ、かつ絶縁層に対して小滴の位置を変化させることができる。

Claim (excerpt)：

絶縁層と透明な導電性液体の小滴と、前記絶縁層の第1表面上に配置され、かつ前記小滴と前記絶縁層の間に配置された潤滑層と、前記絶縁層および前記潤滑層によって前記小滴から絶縁された複数の電極とを備え、前記複数の電極が、前記小滴と前記複数の電極のそれぞれの間でそれぞれの電位を発生するために、それらの電極に選択的にバイアスを掛けることができるように配置され、それによって、前記小滴と、前記絶縁層の前記第1表面に平行な平面との間の角度を変化させることができ、かつ前記絶縁層に対して前記小滴の位置を変化させることができる、調整可能な液体マイクロレンズ。

IPC (2)：

G02B 3/12 , H04N 5/335

FI (2)：

G02B 3/12 , H04N 5/335 U

F-Term (3)：

5C024EX06 , 5C024EX43 , 5C024EX56

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

光拡散素子および該光拡散素子で構成したストロボ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-169421 Applicant：キヤノン株式会社
可変焦点レンズ
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-515192 Applicant：ユニヴェルシテジョセフフーリエ
電気毛管ディスプレイシート
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-317620 Applicant：ゼロックスコーポレイション

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