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J-GLOBAL ID：200903027106886580

ガス溶解水製造装置

Inventor： 山下 幸福 ,  山中 弘次
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 細井 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998265673
Publication number (International publication number)：2000070661
Application date： Sep. 03, 1998
Publication date： Mar. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ガス配管内を流れる乾燥ガスをガス溶解装置に導いて、ガス溶解水を製造する装置において、ガス溶解装置内において超純水にガスを溶解するときに水分がガス中に拡散してガス配管内を流れる乾燥ガスに水分が混入されるという問題点を解決する。【解決手段】 ガス配管(母管2)に枝管10を分岐して設け、該枝管10にガス溶解装置12を連結すると共に、ガス配管とガス溶解装置12との間におけるガス供給ラインに水分除去装置11を設け、且つこの水分除去装置11の前段及び後段におけるガス供給ラインにバルブ16、17を設け、バルブ16、17の開閉を自動制御してガス供給ラインにおけるガス流路を開閉するようにする。

Claim (excerpt)：

乾燥ガスを供給するガス配管に分岐状のガス供給ラインを設け、該ガス供給ラインにガス溶解装置を連結すると共に、上記ガス配管とガス溶解装置との間に水分除去装置を設け且つガス供給ラインにおけるガス流路を開閉するためのバルブを設けてなることを特徴とするガス溶解水製造装置。

IPC (2)：

B01D 53/26 101 ,  B01F 1/00

FI (2)：

B01D 53/26 101 C ,  B01F 1/00 A

F-Term (22)：

4D052AA02 ,  4D052CD01 ,  4D052CE00 ,  4D052DA05 ,  4D052DA06 ,  4D052EA01 ,  4D052FA01 ,  4D052GA01 ,  4D052GA03 ,  4D052GB02 ,  4D052GB03 ,  4D052GB04 ,  4D052GB08 ,  4D052GB14 ,  4D052HA01 ,  4D052HA03 ,  4D052HA36 ,  4G035AA01 ,  4G035AE02 ,  4G035AE13 ,  4G035AE15 ,  4G035AE19

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• オゾン発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-203206   Applicant：株式会社東芝
• 特開昭56-144722