光強度分布検出方法、光強度分布検出装置、アニール装置及びアニール方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (8)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004020104
Publication number (International publication number)：2005214726
Application date： Jan. 28, 2004
Publication date： Aug. 11, 2005
Summary：

【課題】物性が変化する材料を対象とする場合であっても計測結果にバラツキを生ずることなく、安定に検出できる光強度分布検出方法、光強度分布検出装置、アニール装置およびアニール方法を提供する。【解決手段】不可視光の光強度分布が照射される位置に設けられた波長変換部材63の一方面に入射させて、不可視光の光強度分布を特定の可視光波長を中心とする光強度分布に変換し、波長変換部材の他方面側から特定の可視光波長を中心とする光強度分布を光学的に拡大して撮像手段69により撮像し、その撮像データを光強度情報と二次元位置情報とを含む可視光の光強度分布波形信号として解析手段に出力し、可視光の光強度分布波形信号を解析手段で解析することにより不可視光の光強度分布を得る。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

不可視光の光強度分布を検出する方法であって、前記不可視光の光強度分布が照射される位置に設けられた波長変換部材の一方面に入射させて、前記不可視光の光強度分布を特定の可視光波長を中心とする光強度分布に変換し、前記波長変換部材の他方面側から前記特定の可視光波長を中心とする光強度分布を光学的に拡大して撮像手段により撮像し、その撮像データを光強度情報と二次元位置情報とを含む可視光の光強度分布波形信号として解析手段に出力し、前記可視光の光強度分布波形信号を前記解析手段で解析することにより前記不可視光の光強度分布を得ることを特徴とする光強度分布検出方法。

IPC (6)：

G01J1/00 , G01J1/02 , G01J1/58 , H01L21/20 , H01L21/26 , H01L21/268

FI (6)：

G01J1/00 E , G01J1/02 L , G01J1/58 , H01L21/20 , H01L21/268 T , H01L21/26 T

F-Term (21)：

2G065AA04 , 2G065AA11 , 2G065AB02 , 2G065AB05 , 2G065AB09 , 2G065AB27 , 2G065BA04 , 2G065BB25 , 2G065BD03 , 2G065CA08 , 2G065DA20 , 5F052AA02 , 5F052BB02 , 5F052BB03 , 5F052BB04 , 5F052BB06 , 5F052BB07 , 5F052DA02 , 5F052DB01 , 5F052DB07 , 5F052JA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

レーザ加工装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-094222 Applicant：住友重機械工業株式会社
レーザ光撮像装置及びキャップ部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-207205 Applicant：浜松ホトニクス株式会社
レーザ加工方法、液晶表示装置の製造方法、レーザ加工装置、半導体デバイスの製造方法、露光装置、ディスプレイ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-031908 Applicant：株式会社東芝

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