Pat
J-GLOBAL ID:200903027335703740
ブロックコポリマーならびにその製造方法および使用
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
矢野 敏雄 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2001541091
Publication number (International publication number):2003516430
Application date: Nov. 18, 2000
Publication date: May. 13, 2003
Summary:
【要約】本発明は、a)式(I)【化1】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R1は1〜5個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R2およびR3は無関係に水素または式-COOR′の基を表し、その際、R′は水素または1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 0〜40質量%、b)式(II)【化2】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R4は6〜15個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R5およびR6は無関係に水素または式-COOR′′の基を表し、その際、R′′は水素または6〜15個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 10〜98質量%、c)式(III)【化3】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R7は16〜30個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R8およびR9は無関係に水素または式-COOR′′′の基を表し、その際、R′′′は水素または16〜30個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 0〜80質量%、d)コモノマー 0〜50質量%からなるオレフィン系不飽和モノマーの混合物を重合することにより得られ、その際、連鎖生長反応中にエチレン性不飽和モノマーの混合物を不連続的に変更して、そのブロックが少なくとも30のモノマー単位を有するブロックコポリマーが得られるブロックコポリマーに関する。新規のコポリマーは流動点改善剤として使用する。
Claim (excerpt):
ブロックコポリマーにおいて、その都度、エチレン性不飽和モノマーの全質量に対して、 a)式(I) 【化1】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R1は1〜5個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R2およびR3は無関係に水素または式-COOR′の基を表し、その際、R′は水素または1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 0〜40質量%、 b)式(II) 【化2】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R4は6〜15個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R5およびR6は無関係に水素または式-COOR′′の基を表し、その際、R′′は水素または6〜15個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 10〜98質量%、 c)式(III) 【化3】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R7は16〜30個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R8およびR9は無関係に水素または式-COOR′′′の基を表し、その際、R′′′は水素または16〜30個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 0〜80質量%、 d)コモノマー 0〜50質量%からなるオレフィン系不飽和モノマーの混合物を重合することにより得られ、その際、連鎖生長反応中にエチレン性不飽和モノマーの混合物を不連続的に変更して、そのブロックが少なくとも30のモノマー単位を有するブロックコポリマーが得られることを特徴とする、ブロックコポリマー。
IPC (16):
C08F297/08
, C10L 1/08
, C10L 1/18
, C10M145/14
, C10M145/16
, C10M147/02
, C10M149/02
, C10M149/06
, C10M149/08
, C10M149/10
, C10M151/02
, C10M153/02
, C10M155/02
, C10M155/04
, C10N 20:04
, C10N 30:02
FI (16):
C08F297/08
, C10L 1/08
, C10L 1/18 A
, C10M145/14
, C10M145/16
, C10M147/02
, C10M149/02
, C10M149/06
, C10M149/08
, C10M149/10
, C10M151/02
, C10M153/02
, C10M155/02
, C10M155/04
, C10N 20:04
, C10N 30:02
F-Term (37):
4H013CC01
, 4H104CB08C
, 4H104CB09C
, 4H104CD01C
, 4H104CE01C
, 4H104CE03C
, 4H104CE04C
, 4H104CE05C
, 4H104CG01C
, 4H104CJ01C
, 4H104CJ15C
, 4H104EA03C
, 4H104EB05
, 4H104EB07
, 4H104EB08
, 4H104EB09
, 4H104EB10
, 4H104EB13
, 4H104EB15
, 4H104LA01
, 4J026HA06
, 4J026HA11
, 4J026HA19
, 4J026HA28
, 4J026HA39
, 4J026HB11
, 4J026HB19
, 4J026HB28
, 4J026HB39
, 4J026HB45
, 4J026HC11
, 4J026HC19
, 4J026HC28
, 4J026HC39
, 4J026HC45
, 4J026HC47
, 4J026HE04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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