組織病巣の特徴付けおよびマッピングのための方法およびシステム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：廣江武典
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001570178
Publication number (International publication number)：2003527915
Application date： Mar. 28, 2001
Publication date： Sep. 24, 2003
Summary：

【要約】本発明は、組織異常型、形成異常、新形成および癌の発生の間に上皮組織の生化学的および/または機能的特徴で引き起こされた変化のイン・ビボでの非侵入的早期検出およびこれらの変化の程度のマッピングのための方法および装置を提供する。該方法は、少なくとも部分的には、光および特別の化学剤での組合せ組織励起の結果として、調査中の組織から再発光された光の特徴の空間的、一時的かつスペクトル的変化の同時測定に基づく。これらの剤の局所または全身投与の結果、組織の正常および異常領域間のわずかなコントラスト増強がもたらされる。該装置は、1以上のスペクトルバンドにおいて一時的に連続するイメージングの同時取り込みを可能とする。測定されたデータに基づき、剤-組織相互作用速度論、ならびにこれらのデータから誘導された数パラメーターを表す特徴曲線が、調べた領域のいずれかの空間点で決定される。病巣のマッピングおよび特徴付けはこれらのパラメーターに基づく。

Claim (excerpt)：

病理区別剤を組織試料に適用し;対象における該組織を光学的照射に暴露し;次いで、該組織が該病理区別剤と相互作用した後に、該組織試料の動的光学特性を測定し、それにより、組織試料に対する病理区別剤の効果をモニターする;ことを特徴とする組織試料に対する病理区別剤の効果をモニターする方法。

IPC (13)：

A61B 1/00 300 , A61B 1/267 , A61B 1/273 , A61B 1/303 , A61B 1/307 , A61B 1/31 , A61B 10/00 , G01N 21/27 , G01N 21/64 , G01N 21/65 , G01N 21/75 , G01N 33/15 , G01N 33/48

FI (10)：

A61B 1/00 300 D , A61B 10/00 E , G01N 21/27 A , G01N 21/64 B , G01N 21/65 , G01N 21/75 Z , G01N 33/15 Z , G01N 33/48 Z , A61B 1/26 , A61B 1/30

F-Term (59)：

2G043AA03 , 2G043BA16 , 2G043CA05 , 2G043DA02 , 2G043EA01 , 2G043EA03 , 2G043FA02 , 2G043FA03 , 2G043HA01 , 2G043HA07 , 2G043HA09 , 2G043JA02 , 2G043KA09 , 2G043LA01 , 2G043MA01 , 2G043NA01 , 2G043NA05 , 2G045BA14 , 2G045CB01 , 2G045FA11 , 2G045FA16 , 2G054AA08 , 2G054AA10 , 2G054CE02 , 2G054EA03 , 2G054GA05 , 2G054GA06 , 2G059AA05 , 2G059AA06 , 2G059BB12 , 2G059BB14 , 2G059CC16 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059EE12 , 2G059FF05 , 2G059GG01 , 2G059GG02 , 2G059GG04 , 2G059JJ02 , 2G059JJ11 , 2G059JJ17 , 2G059JJ19 , 2G059JJ22 , 2G059KK04 , 2G059MM10 , 4C061AA01 , 4C061AA07 , 4C061AA08 , 4C061AA16 , 4C061BB00 , 4C061CC06 , 4C061DD00 , 4C061HH51 , 4C061JJ11 , 4C061JJ17 , 4C061NN05 , 4C061WW08 , 4C061WW17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

蛍光観察装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-271580 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
特開平3-231627
特表平6-506855

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