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J-GLOBAL ID：200903052493168229

顕微全反射減衰測定光学系

Inventor： 増谷浩二 ,  石浜 傑 ,  大木貞嗣 ,  服部裕允 ,  寺嶋 博
Applicant, Patent owner： 日本電子株式会社
Agent (1)： 韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992186451
Publication number (International publication number)：1994034529
Application date： Jul. 14, 1992
Publication date： Feb. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 顕微ATR測定において、ATR結晶の半球プリズムが可視域で不透明であっても、屈折率が可視域と赤外域で異なっていても、試料表面観察が明瞭にでき、視差のない正確な測定位置決めが可能になる。【構成】 ATR測定は、半球プリズム1の平面を試料S表面に密着して、観察用照明光をその平面に入射させ、試料S表面での反射光又は散乱光により試料面を観察すると共に、その平面での全反射光の減衰により試料Sの全反射減衰特性を測定するもので、赤外線カメラ6を用いて試料S表面を観察するように構成する。

Claim (excerpt)：

半球プリズムの平面を試料表面に密着して、半球プリズムを介して試料表面での反射光又は散乱光により試料面を観察すると共に、前記平面での全反射光の減衰により試料の全反射減衰特性を測定する全反射減衰測定用の光学系において、赤外線カメラを用いて試料表面を観察するようにしたことを特徴とする顕微全反射減衰測定光学系。

IPC (2)：

G01N 21/27 ,  G01N 21/35

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 顕微赤外ATR測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-185898   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開平4-116452
  
• 特開平2-223847
  
• 特開昭62-140050