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J-GLOBAL ID:200903027522142469
水素ガスセンサ
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小倉 亘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000114629
Publication number (International publication number):2001296238
Application date: Apr. 17, 2000
Publication date: Oct. 26, 2001
Summary:
【要約】【目的】 水素吸蔵により膨張するPd-Ag合金層の特性を利用した水素ガスセンサを提供する。【構成】 この水素ガスセンサは、基板に蒸着されたPd-Ag合金層の上にPd又はPt薄膜が形成されており、水素吸蔵によるPd-Ag合金層の膨張が基板の歪として検出される。Pd-Ag合金層をSO2処理した後でPd又はPt薄膜を積層してもよい。
Claim (excerpt):
基板に蒸着されたPd-Ag合金層の上にPd又はPt薄膜が形成されており、水素吸蔵によるPd-Ag合金層の膨張が基板の歪として検出されることを特徴とする水素ガスセンサ。
IPC (3):
G01N 19/00
, C01B 3/00
, C22C 5/06
FI (3):
G01N 19/00 H
, C01B 3/00 B
, C22C 5/06 Z
F-Term (3):
4G040AA01
, 4G040AA32
, 4G040AA43
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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