超純水製造装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：畑中芳実 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996093163
Publication number (International publication number)：1997253639
Application date： Mar. 22, 1996
Publication date： Sep. 30, 1997
Summary：

【要約】【目的】 2次純水系システムにおけるTOC除去率を向上させた超純水製造装置を提供する。【構成】 2次純水系システムCに、紫外線酸化装置16と、その上流側に存して被処理水中の溶存窒素を除去する脱ガス装置14とを設置する。これにより、紫外線酸化装置16において、紫外線照射エネルギーのほぼ全部がTOCの酸化分解に有効利用されるようにする。また、脱ガス装置14と紫外線酸化装置16との間に、被処理水に酸素ガス及び/又はオゾンガスを添加する酸素又はオゾン添加装置26を設置する。これにより、紫外線酸化装置16におけるTOC分解効率がさらに高くなる。

Claim (excerpt)：

1次純水系システムと2次純水系システムとを備えた超純水製造装置であって、紫外線酸化装置と、その上流側に存して被処理水中の溶存窒素を除去する脱ガス装置とを2次純水系システムに設置したことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (4)：

C02F 1/32 , C02F 1/20 , C02F 1/78 , H01L 21/304 341

FI (4)：

C02F 1/32 , C02F 1/20 A , C02F 1/78 , H01L 21/304 341 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

純水の製造装置及び純水の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-109006 Applicant：松下電器産業株式会社

Return to Previous Page