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J-GLOBAL ID:200903027560222476

光触媒反応装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田澤 博昭 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996351537
Publication number (International publication number):1998192696
Application date: Dec. 27, 1996
Publication date: Jul. 28, 1998
Summary:
【要約】【課題】 光触媒固定板が反応槽の内周壁に設けられていたので、光触媒に強い光を当てるため反応槽の内径を小さくすると反応面積も小さくなり、一方、反応面積を大きくするため反応槽の内径を大きくすると光触媒に当たる光が弱くなるなど処理効率が低下する課題があった。【解決手段】 光源と光触媒固定板とを反応槽内に備え、前記光触媒固定板を前記光源とほぼ直交平面をなす位置に配設した。
Claim (excerpt):
光源と光触媒固定板とを反応槽内に備え、被処理流体を導入し、該被処理流体中の不純物を分解、除去して排出する光触媒反応装置において、前記光触媒固定板を前記光源とほぼ直交平面をなす位置に配設したことを特徴とする光触媒反応装置。
IPC (4):
B01J 19/24 ,  B01J 16/00 ,  B01J 35/02 ZAB ,  C02F 1/32
FI (4):
B01J 19/24 A ,  B01J 16/00 ,  B01J 35/02 ZAB J ,  C02F 1/32
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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