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J-GLOBAL ID：200903027836499590

超純水製造システムの洗浄殺菌方法

Inventor：
奥村 正剛

About 奥村 正剛


Applicant, Patent owner：
栗田工業株式会社

About 栗田工業株式会社


Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000395396
Publication number (International publication number)：2002192162
Application date： Dec. 26, 2000
Publication date： Jul. 10, 2002
Summary：
【要約】【課題】 超純水製造システムの微粒子除去のための洗浄及び殺菌を短時間で効率的に行う。【解決手段】 超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの少なくとも一部を、塩基性化合物を含む洗浄液で洗浄した後、該塩基性化合物の少なくとも一部が残存する状態で洗浄液中に過酸化水素を注入する。
Claim (excerpt)：
超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの洗浄殺菌方法において、塩基性化合物を含む洗浄液で前記超純水製造システムの少なくとも一部を洗浄した後、該塩基性化合物の少なくとも一部が残存する状態で洗浄液中に過酸化水素を注入することを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。
IPC (10)：
C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/50 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  B08B 9/02 ,  C02F 1/72
FI (10)：
C02F 1/50 531 Q ,  C02F 1/50 510 B ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 H ,  C02F 1/50 560 C ,  C02F 1/50 560 E ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  C02F 1/72 Z ,  B08B 9/02 Z
F-Term (19)：
3B116AA46 ,  3B116AA47 ,  3B116AA48 ,  3B116BB03 ,  3B116BB82 ,  3B116CD22 ,  3B201AA46 ,  3B201AA47 ,  3B201AA48 ,  3B201BB05 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201CD22 ,  4D050AA05 ,  4D050AB06 ,  4D050BB09 ,  4D050BC10 ,  4D050BD06 ,  4D050CA13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 殺菌方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-227158   Applicant：栗田工業株式会社
  • 洗浄殺菌方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-048734   Applicant：ホシザキ電機株式会社
  • 超純水製造システムの洗浄方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-133984   Applicant：栗田工業株式会社
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