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J-GLOBAL ID：200903008143641283

超純水製造システムの洗浄方法

Inventor： 本村 敬人
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 長門 侃二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999133984
Publication number (International publication number)：2000317413
Application date： May. 14, 1999
Publication date： Nov. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 微粒子及び有機物の除去能力に優れ、洗浄液の残留が少なく垂直立上げが可能な超純水製造システムの洗浄方法を提供する。【解決手段】 超純水製造装置2、超純水のユースポイント4、並びに超純水製造装置2とユースポイント4とを接続する超純水の流路6a、6bから成る超純水製造システム1の少なくとも一部を塩基性洗浄液8で洗浄する。

Claim (excerpt)：

超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路から成る超純水製造システムの少なくとも一部を塩基性洗浄液で洗浄することを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。

IPC (5)：

B08B 3/08 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  H01L 21/304 648

FI (7)：

B08B 3/08 A ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 502 G ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 503 B ,  H01L 21/304 648 K

F-Term (10)：

3B201AA13 ,  3B201AA33 ,  3B201AA47 ,  3B201AB53 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 超純水製造装置の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-000238   Applicant：オルガノ株式会社
• メタル上の異物の除去方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-284891   Applicant：三菱電機株式会社