反射防止多層薄膜およびその成膜方法並びにその成膜装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：北村欣一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995173599
Publication number (International publication number)：1997025562
Application date： Jul. 10, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：

【要約】【目的】実用レベル上十分な擦傷硬度を有する緻密な反射防止膜を提供すること、およびこの反射防止膜を製造する方法並びに装置を提供すること【構成】基板3上に屈折率の異なった材料の薄膜が複数層に積層した多層薄膜の反射防止膜に於いて、該多層薄膜のうちの少なくとも1層の薄膜をTi、Si、Al、Ta、Mg、Zrのいずれかの元素の酸化物が2種以上混入している薄膜とし、該多層薄膜はDCマグネトロンスパッタ法によりターゲットとしてTi、Si、Al、Ta、Mg、Zrのいずれかの元素を2種以上混入させた合金ターゲットを使用すると共に反応性ガスとして酸素を含むガスを使用して成膜する【効果】緻密で擦傷硬度が高く透過率の良い射防止多層薄膜が得られ、その混入比を変更することで膜の発色性も自在に変更でき、不慮の引っ掻き傷が付きにくい反射防止多層膜が得られる

Claim (excerpt)：

基板上に屈折率の異なった材料の薄膜が複数層に積層した多層薄膜の反射防止膜に於いて、該多層薄膜のうちの少なくとも1層の薄膜をTi、Si、Al、Ta、Mg、Zrのいずれかの元素の酸化物が2種以上混入している薄膜としたことを特徴とする反射防止多層薄膜。

IPC (4)：

C23C 14/08 , C23C 14/18 , C23C 14/20 , C23C 14/34

FI (4)：

C23C 14/08 N , C23C 14/18 , C23C 14/20 A , C23C 14/34 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平4-265252
特開平4-355402
酸化アルミニウム膜の形成方法およびX線マスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-296070 Applicant：株式会社東芝

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