基材又は基板表面の汚染防止方法と装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：吉嶺桂 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996031231
Publication number (International publication number)：1997205046
Application date： Jan. 26, 1996
Publication date： Aug. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】基材及び基板表面の接触角を増大させる非メタン炭化水素を効果的、かつ簡便に除去或は接触角増加に関与しない物質へ変換することができる汚染防止方法と装置を提供する。【解決手段】基材又は基板表面の汚染を防止する装置において、該基材又は基板と接触する気体7を非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下に浄化する、光源1と光触媒2とからなる浄化装置Aと該装置で浄化された気体を基材又は基板4表面と接触させる手段とを有することとしたものであり、前記浄化装置は、光源1の表面に薄膜状に光触媒2を形成して一体化装置としてもよいし、前記浄化装置を密閉空間に設け、該空間内に空間容積1m3 当り、50〜50000cm2 の表面積の光触媒を設けてもよい。

Claim (excerpt)：

基材又は基板表面の汚染を防止する方法において、該基材又は基板と接触する少なくとも炭化水素を含む気体を、光が照射されている光触媒と接触させて、非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下に浄化した後、該気体を基材又は基板表面に暴露させることを特徴とする基材又は基板表面の汚染防止方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

基材又は基板表面の汚染防止方法と装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-222775 Applicant：株式会社荏原総合研究所, 株式会社荏原製作所

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