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J-GLOBAL ID：200903027973147669

リソグラフィ装置

Inventor： クリスティアーン アレクサンダー ホーゲンダム ,  ボブ シュトレーフケルク ,  ヨハネス キャサリヌス ヒュベルテュス ムルケンス ,  エリック テオドルス マリア ビユラールト ,  アレクセイ ユーリーフィヒ コレスニーシェンコ ,  エリック ロエロフ ロープシュトラ ,  イエロエン ヨハネス ソフィア マリア マルテンス ,  ベルナルデュス アントニウス スラクヘッケ ,  パトリシウス アロイシウス ヤコブス ティンネマンス ,  ヘルマー ファン サンテン
Applicant, Patent owner： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  岩本 行夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004311712
Publication number (International publication number)：2005167211
Application date： Oct. 27, 2004
Publication date： Jun. 23, 2005
Summary：

【課題】リソグラフィ投影装置において、機械的振動による不必要な外乱をもたらすことなく、液体の圧力変動および/または温度変化を最小限に抑えた液体供給システムを提供すること。【解決手段】投影システムPSの最終要素と基板との間のリザーバ10に、入口21から液体が供給される。オーバーフローが、所与の高さよりも上で液体を除去する。オーバーフローは、入口よりも上に構成され、それによって液体は常に新規補給され、液体の圧力は実質的に一定に保たれる。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、 所望のパターンに従って前記投影ビームにパターンを形成するように働くパターン形成手段を支持するための支持構造と、 基板を保持するための基板テーブルと、 前記パターン形成されたビームを前記基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、 液体リザーバを形成するために、前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間を少なくとも部分的に液体で充填するための液体供給システムと を有するリソグラフィ投影装置であって、 前記液体リザーバからのオーバーフローをさらに有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (2)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521

F-Term (7)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB20 ,  5F046CB26 ,  5F046CB27 ,  5F046DA12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-151985   Applicant：株式会社ニコン
• 液浸式投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-339510   Applicant：キヤノン株式会社
• リソグラフィーアライナー、製造装置、または検査装置用の焦点及びチルト調節システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-274812   Applicant：株式会社ニコン
• 特開昭63-157419
  

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-157419
  
• 液浸式投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-339510   Applicant：キヤノン株式会社
• リソグラフィーアライナー、製造装置、または検査装置用の焦点及びチルト調節システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-274812   Applicant：株式会社ニコン
• 露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-151985   Applicant：株式会社ニコン