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J-GLOBAL ID：200903028087638364

浄水発生土を原料としたゼオライト化改質土の製造方法

Inventor： 芳賀 鉄郎 ,  圓佛 伊智朗 ,  渡辺 昭二 ,  武本 剛 ,  横井 浩人 ,  泉山 昭政 ,  伊藤 永一 ,  大塚 佳臣
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (3)： 小川 勝男 ,  田中 恭助 ,  佐々木 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004034743
Publication number (International publication number)：2005225699
Application date： Feb. 12, 2004
Publication date： Aug. 25, 2005
Summary：

【課題】 浄水発生土を原料とし、アルカリ剤を添加して水熱合成反応させてゼオライト化改質土を製造する方法において、水熱合成反応時のSi溶出を促進する。【解決手段】 浄水発生土を無焼成の状態でアルカリ剤およびSi源含有剤(珪酸カリウム,珪藻土等)と混合する。その後、水熱合成反応を行ってゼオライト化改質土を製造する。水熱合成反応時にSiが溶出しやすくなり、陽イオン交換容量の高いゼオライト化改質土を製造することができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

浄水発生土を、無焼成の状態で、アルカリ剤及びSi源含有剤と混合して水熱合成反応によりゼオライト化改質土を製造することを特徴とする浄水発生土を原料としたゼオライト化改質土の製造方法。

IPC (2)：

C01B39/02 ,  C02F11/00

FI (3)：

C01B39/02 ,  C02F11/00 C ,  C02F11/00 M

F-Term (18)：

4D059AA03 ,  4D059BB02 ,  4D059BD18 ,  4D059BE00 ,  4D059BJ00 ,  4D059CA30 ,  4D059CC06 ,  4D059CC10 ,  4D059DA01 ,  4D059DA12 ,  4D059DA70 ,  4D059EB05 ,  4D059EB20 ,  4G073DZ03 ,  4G073FB36 ,  4G073FB45 ,  4G073FC03 ,  4G073FE10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 浄水汚泥からのゼオライト化土の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-214508   Applicant：日立造船株式会社
• ゼオライト化改質土の製造方法及びゼオライト化改質土の製造システム並びにゼオライト化改質土
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-113559   Applicant：株式会社日立製作所
• 特許第4118663号
  

Cited by examiner (2)

• ゼオライト化改質土の製造方法及びゼオライト化改質土の製造システム並びにゼオライト化改質土
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-113559   Applicant：株式会社日立製作所
• 特許第4118663号