中性子発生施設およびその保守点検方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：鈴江武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000173961
Publication number (International publication number)：2001349990
Application date： Jun. 09, 2000
Publication date： Dec. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】保守点検および必要な交換作業を容易とした中性子発生施設およびその保守点検方法を提供すること。【解決手段】中性子を発生させる中性子発生手段9,11と、中性子発生手段9,11を配置するための配置部を備えた中性子減速手段6と、中性子減速手段6を配置するための凹部を備えるとともに、中性子減速手段6に備えられた配置部へ中性子発生手段9,11を導入するための導入口を備えた中性子反射体7と、これらを収納する収納タンク1とを備え、収納タンク1に中性子反射体7を、凹部を備えた面が上面となるように収納し、かつ凹部に中性子減速手段6を配置し、中性子発生手段9,11を、中性子反射体7に備えられた導入口から導入して、中性子減速手段6に備えられた配置部に配置すること。

Claim (excerpt)：

中性子を発生させる中性子発生手段と、前記中性子発生手段を配置するための配置部を内部に備え、前記中性子発生手段により発生した中性子を減速させる中性子減速手段と、前記中性子減速手段を配置するための凹部を備えるとともに、前記中性子減速手段に備えられた配置部へ前記中性子発生手段を導入するための導入口を備え、前記中性子発生手段により発生した中性子を反射させる中性子反射体と、少なくとも前記中性子発生手段と前記中性子減速手段と前記中性子反射体とを収納する収納タンクとを備え、前記収納タンクに前記中性子反射体を、その凹部を備えた面が上面となるように収納し、かつ前記凹部に前記中性子減速手段を配置し、前記中性子発生手段を、前記中性子反射体に備えられた導入口から導入して、前記中性子減速手段に備えられた配置部に配置してなることを特徴とする中性子発生施設。

IPC (3)：

G21G 4/02 , G21K 5/02 , H05H 3/06

FI (3)：

G21G 4/02 , G21K 5/02 N , H05H 3/06

F-Term (10)：

2G085BA01 , 2G085BA17 , 2G085BE02 , 2G085BE04 , 2G085BE06 , 2G085BE07 , 2G085BE08 , 2G085BE10 , 2G085EA05 , 2G085EA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特開昭50-124096
特開昭60-162947
中性子発生設備
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-245057 Applicant：株式会社日立製作所, 日本原子力研究所

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