チオール化合物、共重合体及び共重合体の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小林雅人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003042535
Publication number (International publication number)：2004250377
Application date： Feb. 20, 2003
Publication date： Sep. 09, 2004
Summary：

【課題】従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。【解決手段】本発明のチオール化合物は、式(1)HS-R1(COOR2)n (1)(式中、R1は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素からなる2価又は3価の置換基、R2はラクトン構造を含む炭素数4〜10の炭化水素からなる1価の置換基、nは1又は2の整数を表す。)で表されることを特徴とするものである。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

式(1) HS-R1(COOR2)n (1) (式中、R1は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素からなる2価又は3価の置換基、R2はラクトン構造を含む炭素数4〜10の炭化水素からなる1価の置換基、nは1又は2の整数を表す。) で表されることを特徴とするチオール化合物。

IPC (6)：

C07D307/33 , C07D307/00 , C08F2/38 , G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027

FI (6)：

C07D307/32 Q , C07D307/00 , C08F2/38 , G03F7/039 601 , G03F7/11 503 , H01L21/30 502R

F-Term (13)：

2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025DA34 , 4C037FA10 , 4C037UA07 , 4J011NA25 , 4J011NB04 , 4J011NB05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

化学増幅型レジスト用共重合体の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-176931 Applicant：三菱レイヨン株式会社
アクリル系重合体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-183997 Applicant：株式会社日本触媒
グラフト共重合体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-169636 Applicant：ロームアンドハースカンパニー

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