Pat
J-GLOBAL ID：200903028160252046

パターンの光強度計算方法

Inventor：
乾 博智

About 乾 博智


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 鈴木 章夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999022323
Publication number (International publication number)：2000221659
Application date： Jan. 29, 1999
Publication date： Aug. 11, 2000
Summary：
【要約】【課題】 マスクの光強度分布をシミュレーションにより計算する方法として、高精度な計算を可能とする一方で、計算速度の向上を図った光強度計算方法を提供する。【解決手段】 ステッパ光学系のカーネルφと固有値αのテーブルを作成する工程(S101)と、前記カーネルのサイズL×Lを2L×2Lに拡張して周期境界とし、かつその拡張部分に0を詰めたものをフーリエ変換した値Φを求める工程(S102)と、計算対象のパターンを点Pを中心として2L×2Lの大きさに切り出す工程(S103)と、前記切り出したパターンを矩形、三角形に分割し、その透過率を周期2Lの解析フーリエの和Fとして計算する工程(S104)と、前記FとΦの積を逆フーリエ変換してコンボリューション積分I’を計算する工程(S105)と、前記I’の周辺のL/2の領域を除いて光強度分布Iを求める工程(S106)と、前記点PをLだけ移動して前記各工程を繰り返して前記パターンの光強度分布を求める(S107,S108)。
Claim (excerpt)：
ステッパ光学系のカーネルの境界を拡張して周期境界としたテーブルのフーリエ変換と、パターンを矩形と三角形のパターン片に分割し、かつ分割した各パターン片の透過率の解析フーリエの和からコンボリューション積分を行って光強度分布を求めることを特徴とするパターンの光強度計算方法。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 514 Z
F-Term (3)：
2H095BB01 ,  5F046AA28 ,  5F046BA04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM