ウエット処理方法及び処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福森久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995185383
Publication number (International publication number)：1997036079
Application date： Jul. 21, 1995
Publication date： Feb. 07, 1997
Summary：

【要約】【課題】本発明は、従来よりもより高清浄な洗浄が可能なウエット処理方法及び処理装置を提供すること。【解決手段】オゾン水を供給するためのオゾン水用ノズルと、超純水を供給するための超純水用ノズルと、電解イオン水を供給するための電解イオン水供給用ノズルと、被処理物をブラッシングするためのブラシと、を少なくとも有する第1の槽と、被処理物に電解イオン水を高圧噴射するための電解イオン水高圧ジェットノズルと、超純水を被処理物に供給するための超純水用ノズルと、を少なくとも有する第2の槽と、電解イオン水を導入するための手段と、該電解イオン水に30kHz以上の超音波を照射するための手段と、を少なくとも有する第3の槽と、電解イオン水を導入するためのノズルを有する被処理物の乾燥を行うための第4の槽と、を少なくとも有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

オゾン水による洗浄工程、電解イオン水によるブラシ洗浄工程、電解イオン水による高圧ジェット洗浄工程、電解イオン水に30kHz以上の超音波を照射して行う超音波洗浄工程、電解イオン水による洗浄工程、乾燥工程、を順に有することを特徴とするウエット処理方法。

IPC (2)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (3)：

H01L 21/304 341 N , H01L 21/304 341 B , H01L 21/304 341 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平1-140727
洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-014457 Applicant：富士通株式会社
ウェット処理方法及び処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-218211 Applicant：日本電気株式会社

Show all

Return to Previous Page