Pat

J-GLOBAL ID：200903028240438507

高分子ゲル組成物及びその製造方法、並びに高分子ゲル組成物を用いた光学素子

Inventor： 筒井 浩明 ,  三上 正人 ,  明石 量磁郎
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003078887
Publication number (International publication number)：2004285203
Application date： Mar. 20, 2003
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：

【課題】全光線透過率を大きく変化させることができ、かつヘイズが少なく透明性の高い光学素子の提供。【解決手段】高分子ゲル連続相と、前記高分子ゲル連続相中に分散された刺激により単独で体積変化を示す高分子ゲル粒子と、前記高分子ゲル連続相と前記高分子ゲル粒子とに含まれる液体とを有する高分子ゲル組成物であって、前記高分子ゲル粒子は調光用材料を含有し、前記高分子ゲル連続相と前記高分子ゲル粒子とは相互侵入網目構造を形成することを特徴とする高分子ゲル組成物を一対の基板間に挟持させ、且つ前記基板の端部が封止処理されていることを特徴とする光学素子。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

高分子ゲル連続相と、前記高分子ゲル連続相中に分散された刺激により単独で体積変化を示す高分子ゲル粒子と、前記高分子ゲル連続相と前記高分子ゲル粒子とに含まれる液体とを有する高分子ゲル組成物であって、前記高分子ゲル粒子は調光用材料を含有し、前記高分子ゲル連続相と前記高分子ゲル粒子とは互いに相互侵入網目構造を形成することを特徴とする高分子ゲル組成物。

IPC (3)：

C08L101/00 ,  C08K3/04 ,  C08K5/00

FI (3)：

C08L101/00 ,  C08K3/04 ,  C08K5/00

F-Term (7)：

4J002BG01W ,  4J002BG07W ,  4J002BG12W ,  4J002BG12X ,  4J002BG13W ,  4J002FD096 ,  4J002GP00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 高分子ゲル組成物およびその製造方法、並びにそれを用いた光学素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-297175   Applicant：富士ゼロックス株式会社
• 高分子ゲル組成物、およびその製造方法、樹脂組成物、並びに光学素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-061847   Applicant：富士ゼロックス株式会社

Cited by examiner (2)

• 高分子ゲル組成物およびその製造方法、並びにそれを用いた光学素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-297175   Applicant：富士ゼロックス株式会社
• 高分子ゲル組成物、およびその製造方法、樹脂組成物、並びに光学素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-061847   Applicant：富士ゼロックス株式会社