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J-GLOBAL ID：200903040844938290

高分子ゲル組成物およびその製造方法、並びにそれを用いた光学素子

Inventor：
筒井 浩明

About 筒井 浩明

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明石 量磁郎

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三上 正人

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植松 高志

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森山 正洋

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Applicant, Patent owner：
富士ゼロックス株式会社

About 富士ゼロックス株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000297175
Publication number (International publication number)：2002105327
Application date： Sep. 28, 2000
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：
【要約】【課題】 低コスト、かつ透明性に優れた高分子ゲル組成物、およびその製造方法、並びにそれを用いた光学素子を提供すること。また、外部の物質の濃度変化や物質の出入りによっても応答し得る高分子ゲル組成物、およびその製造方法、並びにそれを用いた光学素子を提供すること。【解決手段】 液体を含有し、かつ刺激の付与により前記液体を吸収・放出して体積変化を生ずる高分子ゲル1と、高分子ゲル1を覆う保持部材2と、を有し、保持部材2が前記液体を含有していることを特徴とする高分子ゲル組成物、およびその製造方法、並びにそれを用いた光学素子である。
Claim (excerpt)：
液体を含有し、かつ刺激の付与により前記液体を吸収・放出して体積変化を生ずる高分子ゲルと、該高分子ゲルを覆う保持部材と、を有し、該保持部材が前記液体を含有していることを特徴とする高分子ゲル組成物。
IPC (7)：
C08L101/00 ,  C08J 5/18 CEY ,  C08K 5/00 ,  C09K 3/00 ,  G02B 1/04 ,  G02B 5/23 ,  G02F 1/17
FI (8)：
C08L101/00 ,  C08J 5/18 CEY ,  C08K 5/00 ,  C09K 3/00 U ,  C09K 3/00 E ,  G02B 1/04 ,  G02B 5/23 ,  G02F 1/17
F-Term (36)：
2H048DA04 ,  2H048DA09 ,  2H048DA12 ,  2H048DA21 ,  2H048DA22 ,  4F071AA32 ,  4F071AA33 ,  4F071AA35 ,  4F071AE09 ,  4F071AE19 ,  4F071AH19 ,  4F071BA03 ,  4F071BB01 ,  4F071BB12 ,  4J002AA002 ,  4J002BC121 ,  4J002BG011 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002BH021 ,  4J002BQ001 ,  4J002DA036 ,  4J002DC006 ,  4J002DE106 ,  4J002DE136 ,  4J002DE146 ,  4J002DG056 ,  4J002DJ036 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU026 ,  4J002EU036 ,  4J002EU056 ,  4J002EU116 ,  4J002FD096 ,  4J002FD202 ,  4J002GP00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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