パターン形成材料およびパターン形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宇井正一 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993110471
Publication number (International publication number)：1994324494
Application date： May. 12, 1993
Publication date： Nov. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】露光後ベークまでの間において長時間放置しても、得られるパターンの寸法精度を所望に保持することのできるパターン形成材料およびパターン形成方法を提供する。【構成】多環芳香族または少なくとも1つの芳香環を持つ縮合環または脂環族、分枝アルキルもしくはハロゲンのいずれかを置換基として持つ芳香環を含む単位または脂肪族環式基をエステル部に含むアクリル酸もしくはメタクリル酸エステル誘導体からの単位と、感光基を含む重合性モノマーからの単位とを含む共重合体を放射線照射により酸を発生する化合物とともにレジストとして用いる。

Claim (excerpt)：

多環芳香族または少なくとも1つの芳香環を持つ縮合環または脂環族、分枝アルキルもしくはハロゲンのいずれかを置換基として持つ芳香環を含む単位と、感光基を含む重合性モノマーからの単位とを含む共重合体および放射線照射により酸を発生する化合物を含むパターン形成材料。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 , C09K 3/00 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027 , C23F 1/00 102

FI (2)：

H01L 21/30 361 G , H01L 21/30 361 Q

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (18)

特開平4-212961
特開平3-107165
特開平3-223865

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