試料面位置測定装置及び測定方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996183554
Publication number (International publication number)：1998026513
Application date： Jul. 12, 1996
Publication date： Jan. 27, 1998
Summary：

【要約】【課題】レジストへのダメージやドリフトの影響がなく、構造並びに処理の簡単化が図れる試料面位置測定装置及び測定方法を提供することを目的とする。【解決手段】光源1から出射されたレーザー光をビームスプリッタ2で分け、AOM3、4に供給して微小量異なる周波数f1 ,f2 で変調し、AOM3から出射された光束5をビームスプリッタ6でさらに分け、光束5、7、8を試料9の測定面に照射する。試料で反射または回折した光を重ね合わせてセンサ16、17に導き、周波数の異なる2つの光の波動の干渉により生じるうなりの信号の位相差を位相計18で測定することにより、測定面の位置を高さまたは並進方向に検出することを特徴とする。光ヘテロダインを採用した位相測定のため、試料面からの反射光量の変化に依存せず、レジストへのダメージやドリフトの影響がなく、装置構成を複雑にすることなく、高精度な位置検出が可能となる。

Claim (excerpt)：

試料の測定面に可干渉性のある光を少なくとも2本照射する手段と、前記試料の測定面で反射または回折した光を検出器に導く手段と、検出器に導かれた2光束に含まれる周波数の異なる光の波動の干渉により生じるうなりの位相を検出する手段とを具備し、前記試料の測定面における法線方向の位置または前記試料の測定面内で互いに直交する2方向の変位を検出することを特徴とする試料面位置測定装置。

IPC (3)：

G01B 11/00 , H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (3)：

G01B 11/00 G , H01L 21/68 F , H01L 21/30 526 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開昭63-038102
位置ズレ及びギャップ検出方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-191607 Applicant：株式会社ソルテック
特開平4-315904

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