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J-GLOBAL ID:200903028440485330
廃棄物処理装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
篠部 正治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998036915
Publication number (International publication number):1999226542
Application date: Feb. 19, 1998
Publication date: Aug. 24, 1999
Summary:
【要約】【課題】ロータリーキルン装置の加熱応答性を良くして、処理量の変動、および処理物の変化により変動する熱分解エネルギの変動に短時間で対応して加熱ゾーンを小型化して熱効率を向上させる。【解決手段】タイヤ1aの下部をローラで回転可能に支持し、内部を密閉するようにした中空の円筒体から構成し前段から搬入された塩素化合物を含む廃棄物原料を内部で所定の温度に加熱保持しながら搬送して熱分解ガスおよび不揮発性残渣を生成するキルン本体1と、前記廃棄物を前記キルン本体1に搬送するスクリューフィーダー6を有する廃棄物原料投入装置と、該キルン本体1を外周側から誘導加熱する誘導加熱コイル4a,4b,4cと、前記キルン本体1の後段に配備して不揮発性残渣を回収するとともに、熱分解ガスを収集して後段のガス処理装置へ排出する残渣回収室13とから構成する。
Claim (excerpt):
長手方向の両端部に配備した円筒形のタイヤの下部を駆動装置のローラで回転可能に支持し、前後段に配備する機器により内部を密閉するようにした中空の円筒体から構成し、前段から搬入された塩素化合物を含む廃棄物原料を内部で所定の温度に加熱保持しながら搬送して熱分解ガスおよび不揮発性残渣を生成するキルン本体と、該キルン本体の前段に配備して、前記廃棄物を前記キルン本体に搬送するスクリューフィーダーを有する廃棄物原料投入装置と、該キルン本体を外周側から誘導加熱する誘導加熱コイルと、前記キルン本体の後段に配備して不揮発性残渣を回収するとともに、熱分解ガスを収集して後段のガス処理装置へ排出する残渣回収室とを備えたことを特徴とする廃棄物処理装置。
IPC (6):
B09B 3/00
, B09B 3/00 ZAB
, C10G 1/00
, C10G 1/10
, F27B 7/20
, F27B 7/32
FI (6):
B09B 3/00 302 A
, C10G 1/00 B
, C10G 1/10
, F27B 7/20
, F27B 7/32
, B09B 3/00 ZAB
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開昭51-036287
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活性炭材の乾留処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-239182
Applicant:富士電機株式会社
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塩化ビニル含有ダストの熱分解処理方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-298578
Applicant:トピー工業株式会社
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バッチ式の廃棄物脱塩素処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-208695
Applicant:株式会社明電舎
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誘導加熱型熱処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-286769
Applicant:株式会社村田製作所
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