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J-GLOBAL ID：200903028552838839

複数区域不支持微孔性薄膜

Inventor：
リチャード・セール

About リチャード・セール

, 
ユージーン・エイ・オストレイチャー

About ユージーン・エイ・オストレイチャー


Applicant, Patent owner：
キュノ、インコーポレーテッド

About キュノ、インコーポレーテッド


Agent (2)： 大川 晃 ,  小野寺 洋二
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002517195
Publication number (International publication number)：2005506168
Application date： Aug. 07, 2001
Publication date： Mar. 03, 2005
Summary：
不支持にした連続的な微孔薄膜の少なくとも二つの区域が開示される。その不支持にした連続的な微孔薄膜の少なくとも二つの区域は、少なくとも二つの異なる薄膜空隙サイズ区域を包含することができ、すなわちその空隙サイズはおよそ同程度の空隙サイズを有することができる。不支持にした連続的な微孔性薄膜の少なくとも二つの区域を二次加工するための装置とプロセスが、さらに開示される。少なくとも二つの区域を有している連続的な不支持にした複数区域転相微孔性薄膜を形成するために開示した一つの代表的なプロセスが、連続的に移動する被覆表面に関して少なくとも二つのポリマードープ供給スロットを備えている少なくとも一つのドープ提供装置を機能的に配置し、被覆表面上に複数層のポリマードープを作るために連続的に移動する被覆表面上へ各ドープ供給スロットからポリマードープを提供し、湿った複数区域転相微孔性薄膜を形成するために複数のドープ区域を転相製造環境に接触させて従属させ、そしてそのとき薄膜を洗浄しかつ乾燥するという行為からなる。他の代表的な装置とプロセスがさらに開示される。
Claim (excerpt)：
少なくとも二つの区域を有する連続複数区域不支持転相微孔性薄膜を形成するためのプロセスであって、以下の行為から構成される: 連続的に移動する被覆表面に関連する少なくとも二つのポリマードープ供給スロットを有する少なくとも一つのドープ提供装置を適切に配置し; 被覆表面上に複数層ポリマードープ被覆を作るために、連続的に移動する被覆表面上にドープ供給スロットから協調的にポリマードープを供給し;そして 湿った複数区域転相微孔性薄膜を形成するために、転相生成環境に接触するように複数ドープ層被覆を服従させている。
IPC (4)：
B01D67/00 ,  B01D71/34 ,  B01D71/56 ,  B01D71/68
FI (4)：
B01D67/00 ,  B01D71/34 ,  B01D71/56 ,  B01D71/68
F-Term (14)：
4D006GA12 ,  4D006MA03 ,  4D006MA10 ,  4D006MA22 ,  4D006MA40 ,  4D006MC29X ,  4D006MC54X ,  4D006MC63X ,  4D006NA41 ,  4D006NA61 ,  4D006NA64 ,  4D006NA73 ,  4D006PB24 ,  4D006PB44
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 特開昭62-019205
  • 高性能複合膜
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-551872   Applicant：コックメンブランシステムズインコーポレーテッド
  • 補強された3帯の微孔性膜の製造方法
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-536552   Applicant：キューノ・インコーポレイテッド
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